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J-GLOBAL ID：202002238814369543   整理番号：20A0806665

HCl溶液中のビスマスの電気化学的挙動【JST・京大機械翻訳】

Electrochemical behaviour of bismuth in HCl solutions

著者 (1件)： Mogoda Awad Sadek (Chemistry Department, Faculty of Science, Cairo University, Giza, Egypt)
資料名： Bulletin of Materials Science  (Bulletin of Materials Science)
巻： 43  号： 1  ページ： 100  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0142A  ISSN： 0250-4707  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 開回路条件における開回路電位と電気化学インピーダンス分光法(EIS)の測定を用いて,種々の濃度(0.01~1.0M)の塩酸溶液中の機械研磨ビスマス表面の挙動を特性化した。空気形成(予備浸漬)酸化ビスマスは全ての試験溶液中で表面上に成長したが,その厚さはHCl濃度が増加すると減少した。インピーダンス結果は,塩化物イオン濃度がそれらの攻撃性の結果として増加するので,酸化物濃縮に対するビスマス表面反応性が減少することを示した。HCl溶液中のビスマスのEISデータのスペクトルを適合させるための等価回路モデルは,Bi腐食の機構が電荷移動と拡散過程によって制御されることを示した。機械研磨したビスマス表面を,0.023M HCl溶液への浸漬前後の走査電子顕微鏡により調べた。走査電子顕微鏡写真は,機械研磨したBi表面上に形成された欠陥領域が酸化膜の厚さにより酸溶液中に浸漬後に修復されることを示した。Copyright Indian Academy of Sciences 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 拡散過程 ,  酸化ビスマス ,  *電気化学的挙動 ,  腐食 ,  インピーダンス ,  走査電子顕微鏡 ,  電極電位 ,  *ビスマス ,  表面反応 ,  開路 ,  電荷移動 ,  *塩酸 ,  スペクトル ,  酸化膜
準シソーラス用語： 機械研磨 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ビスマス腐食 ,  開回路ポテンシャル ,  インピーダンス ,  塩酸 ,  パッシベーション

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  防食  (WB03040M)

タイトルに関連する用語 (4件)： HCl ,  溶液 ,  ビスマス ,  電気化学的挙動