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J-GLOBAL ID:202002239171942569   整理番号:20A1030606

新しい二段階プロセスを用いて調製したTa基板上の緻密なMoSi_2セラミック被覆の酸化挙動と微細構造【JST・京大機械翻訳】

Oxidation behaviour and microstructure of a dense MoSi2 ceramic coating on Ta substrate prepared using a novel two-step process
著者 (15件):
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巻: 40  号: 10  ページ: 3555-3561  発行年: 2020年 
JST資料番号: E0801B  ISSN: 0955-2219  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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タンタル(Ta)合金は優れた高温機械的性質と加工性のために重要な超高温構造材料である。しかし,それらは高温酸化抵抗が低い。本研究では,超高温酸化抵抗を改善するために,革新的なマルチアークイオンめっきプロセスとハロゲン化物活性化パックセメンテーションを用いて,Ta基板上に緻密なMoSi_2セラミックコーティングを調製した。このセラミック被覆は低い粗さ空間計算(287.1±26.3nm)と緻密な構造を示した。被覆の厚さと1250°Cでのパックセメンテーションの期間の関係は放物線であった。コーティングは1750°Cで12時間以上の耐用年数を有し,コーティングの均一で緻密な構造と高温酸化の間に低いO_2透過率を有する緻密なSiO_2層の急速な形成のために優れた高温酸化抵抗を示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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セラミック・磁器の性質  ,  非金属材料へのセラミック被覆 

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