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J-GLOBAL ID：202002239464279713   整理番号：20A1124701

2つの変換による4レベルおよび2レベル設計の新しい下界【JST・京大機械翻訳】

New lower bounds of four-level and two-level designs via two transformations

著者 (3件)： Li Hongyi (Normal College, Jishou University, Jishou, China) ,  Li Hongyi (College of Mathematics and Statistics, Central China Normal University, Wuhan, China) ,  Qin Hong (College of Mathematics and Statistics, Central China Normal University, Wuhan, China)
資料名： Statistical Papers  (Statistical Papers)
巻： 61  号： 3  ページ： 1231-1243  発行年： 2020年 
JST資料番号： W4967A  ISSN： 0932-5026  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： コード理論は,近年,最適設計を構築するために広く使われている。本論文では,2つの変換,修正Grayマップおよび4レベル設計のための3つの二値符号の順序と4次符号の間のマッピングを考察した。二つの変換を通して,四準位設計に対応する二準位設計のラップ-周辺[数式:原文を参照]-不一致値を四準位設計により決定し,四準位設計に対する新しい解析式を構築し,均一設計を探索し,設計の均一性を評価するためのベンチマークとして用いることができる。さらに,二次変換に基づいて,四準位設計の収差と導出した二準位設計の均一性の間に非常に強いリンクを与えた。Copyright Springer-Verlag GmbH Germany, part of Springer Nature 2018 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *収差 ,  最適設計 ,  ラップ ,  ベンチマーク
準シソーラス用語： *下界 ,  バイナリコード , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 修正グレイマップ ,  下界 ,  四元コード ,  均一設計 ,  [数式:原文を参照]-不一致

分類 (1件)： 分子の電子構造  (BH05010Q)

タイトルに関連する用語 (2件)： 設計 ,  下界