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J-GLOBAL ID:202002239985660501   整理番号:20A1915692

トポロジカル絶縁体/フェリ磁性ヘテロ構造におけるフェリ磁性スキルミオン【JST・京大機械翻訳】

Ferrimagnetic Skyrmions in Topological Insulator/Ferrimagnet Heterostructures
著者 (14件):
資料名:
巻: 32  号: 34  ページ: e2003380  発行年: 2020年 
JST資料番号: W0001A  ISSN: 0935-9648  CODEN: ADVMEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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磁気スカイミオンは,次世代エネルギー効率の良い高密度スピントロニクスデバイスに潜在的用途を持つトポロジー的に自明でないキラルスピンテクスチャである。一般的に,スカイミオンのキラルスピンは,強いスピン-軌道結合(SOC)と結合した反転対称性の破れから生じる非共線Dzyaloshinskii-Moriya相互作用(DMI)によって安定化される。ここでは,トポロジカル絶縁体(TI)からの強いSOCを用いて,室温でTI/フェリ磁性ヘテロ構造における大きな界面DMIを提供し,隣接フェリ磁性体において小さなサイズ(半径≒100nm)のスカイミオンを得た。反強磁性結合スカイミオン副格子を,元素分解走査透過X線顕微鏡によりフェリ磁性体中に観測し,消失スカイミオンHall効果および超高速スカイミオン動力学の可能性を示した。単一スカイミオンの線走査スピンプロファイルはNeel型ドメイン壁構造と180°分域壁の120nmサイズを示した。本研究は,低エネルギースピントロニクスデバイスに対して大きな有望性を有するTIベースヘテロ構造において,実現可能なDMIと小さなスカイミオンを実証した。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (4件):
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その他の無機化合物の薄膜  ,  その他の無機化合物の結晶成長  ,  塩  ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造 
タイトルに関連する用語 (4件):
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