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J-GLOBAL ID:202002240079939674   整理番号:20A1064201

CH_3O_COH+OH反応の高温速度定数 多重構造と経路の影響【JST・京大機械翻訳】

High-temperature rate constants for CH3OCOH + OH reactions: the effects of multiple structures and paths
著者 (3件):
資料名:
巻: 139  号:ページ: 85  発行年: 2020年 
JST資料番号: C0299A  ISSN: 1432-881X  CODEN: TCACFW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ヒドロキシルラジカルによるギ酸メチルの水素引き抜き反応の速度定数を,800~1500Kの範囲の温度での小曲率トンネリングを伴う1井戸(1W)および多経路(MP)変分遷移状態理論により計算した。内部回転により達成された反応物と遷移状態の全ての可能な立体配座をM05-2X/maug-cc-pVTZにより最適化した。調和振動周波数を行い,定常点の性質を確認した。遷移状態(鏡像を含む)の13の立体配座がこの理論レベルで見出され,2つの立体配座反応チャネル(CRCs)に分離された。各CRCの個々のエネルギー経路を構築し,熱速度定数を1WとMP形式で求めた。1W-CVT/SCT熱速度定数は実験結果を過小評価し,ホルミル基による水素引き抜き反応が支配的であることを示した。反応物と遷移状態の多重構造を考慮すると,熱速度定数の値は実験測定と優れた一致を示した。さらに,MP-CVT/SCT生成物分岐比は実験的速度論モデルと良く一致した。Copyright Springer-Verlag GmbH Germany, part of Springer Nature 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
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分子の電子構造  ,  付加反応,脱離反応  ,  原子とラジカルの反応 
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