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J-GLOBAL ID：202002240536414418   整理番号：20A0365817

BL-18Cで新しく開発された高圧小角X線散乱システムにより構造変換中のシリカガラスの不均一性を解明する

Newly-Developed High-Pressure Small-Angle X-Ray Scattering System at BL-18C Reveals Inhomogeneity in Silica Glass during Structural Transformation

著者 (3件)： SATO T. (Hiroshima Univ.) ,  FUNAMORI N. (KEK-IMSS-PF) ,  WAKABAYASHI D. (KEK-IMSS-PF)
資料名： KEK Progress Report (Web)  (KEK Progress Report (Web))
号： 2019-4  ページ： 50-51 (WEB ONLY)  発行年： 2019年11月 
JST資料番号： U0583A  ISSN： 1344-6320  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： 開発 ,  高圧 ,  小角X線散乱 ,  シリカガラス ,  不均一性