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J-GLOBAL ID：202002241527548693   整理番号：20A2608005

5nmのパターン形成能力を有する高耐エッチング性フェロセン含有ブロック共重合体

High Etch Resistant Ferrocene-Containing Block Copolymers with 5 nm Patterning Capability

著者 (2件)： Wu Guangya (School of Micro-Electronics, State Key Laboratory of Molecular Engineering of Polymers, Fudan University) ,  Deng Hai (School of Micro-Electronics, State Key Laboratory of Molecular Engineering of Polymers, Fudan University)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology (Web)  (Journal of Photopolymer Science and Technology (Web))
巻： 33  号： 5  ページ： 537-540(J-STAGE)  発行年： 2020年 
JST資料番号： U2132A  ISSN： 1349-6336  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フェロセン含有ブロックを有する一連のフッ素化ブロック共重合体(BCP)を,可逆的付加開裂連鎖移動重合により合成した。高度に秩序化された層状のまたは六角形の均質なフェロセン含有ドメインがTEMにより観察された。SAXSにより測定された最小ドメイン間隔は9.8nmであった。金属ドメインからの固有の耐エッチング性の恩恵を受けて,5nmのパターン形成能力を有する高耐エッチング性BCPを得た。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *パターン形成 ,  *エッチング ,  *耐性 ,  *フェロセン ,  *ブロック共重合体 ,  フッ素化 ,  リビングラジカル重合 ,  化学合成 ,  ラメラ ,  六角形 ,  透過型電子顕微鏡 ,  小角X線散乱 ,  間隔 ,  アゾ化合物 ,  脂肪族ニトリル ,  脂環式ケトン
準シソーラス用語： SAXS【散乱】 ,  TEM【顕微鏡】 ,  ドメイン ,  可逆的付加開裂連鎖移動重合 ,  層状 ,  秩序化

著者キーワード (6件)： エッチ抵抗 ,  ブロック共重合体 ,  指向性自己集合 ,  フェロセンポリマー ,  フェロセンドメイン ,  サブ5nm

分類 (3件)： 共重合  (CG04030D) ,  有機鉄化合物  (CF09056D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (5件)： ヘキサフルオロイソプロピルアルコール ,  メタクリル酸2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル ,  アゾビスイソブチロニトリル ,  シクロヘキサノン ,  ジチオ安息香酸1-シアノ-1-メチルエチル

引用文献 (18件)：

• 1. H.-C. Kim, S.-M. Park, and W. D. Hinsberg, Chem. Rev., 110 (2010) 146.
• 2. C. M. Bates, T. Seshimo, M. J. Maher, W. J. Durand, J. D. Cushen, L. M. Dean, G. Blachut, C. J. Ellison, and C. G. Willson, Science, 338 (2012) 775.
• 3. C. J. Hawker and T. P. Russell, MRS Bull., 30 (2011) 952.
• 4. H. S. Suh, D. H. Kim, P. Moni, S. Xiong, L. E. Ocola, N. J. Zaluzec, K. K. Gleason, and P. F. Nealey, Nat. Nanotech., 12 (2017) 575.
• 5. G. Jeong, D. M. Yu, J. K. D. Mapas, Z. Sun, J. Rzayev, and T. P. Russell, Macromolecules, 50 (2017) 7148.

タイトルに関連する用語 (5件)： パターン形成 ,  能力 ,  耐エッチング性 ,  フェロセン ,  ブロック共重合体