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J-GLOBAL ID：202002242138954999   整理番号：20A2652118

硫化物修飾α-FeOOHによる水溶液からのAs(V)とSb(V)の比較除去【JST・京大機械翻訳】

Comparative removal of As(V) and Sb(V) from aqueous solution by sulfide-modified α-FeOOH

著者 (6件)： Li Qiao (Jiangsu Key Laboratory of Chemical Pollution Control and Resources Reuse, School of Environmental and Biological Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing, 210094, China) ,  Li Rui (Jiangsu Key Laboratory of Chemical Pollution Control and Resources Reuse, School of Environmental and Biological Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing, 210094, China) ,  Ma Xinyue (Jiangsu Key Laboratory of Chemical Pollution Control and Resources Reuse, School of Environmental and Biological Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing, 210094, China) ,  Sarkar Binoy (Lancaster Environment Centre, Lancaster University, Lancaster, LA1 4YQ, United Kingdom) ,  Sun Xiuyun (Jiangsu Key Laboratory of Chemical Pollution Control and Resources Reuse, School of Environmental and Biological Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing, 210094, China) ,  Bolan Nanthi (Global Centre for Environmental Remediation, University of Newcastle, Callaghan Campus, NSW, 2308, Australia)
資料名： Environmental Pollution  (Environmental Pollution)
巻： 267  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0984B  ISSN： 0269-7491  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 廃水流からのAs(V)とSb(V)の効率的除去は長い間大きな課題である。ここでは,水性媒体からAs(V)とSb(V)を除去する簡単な硫化反応により,スルフド修飾α-FeOOH吸着剤を作製した。元のα-FeOOHと比較して,スルファルド修飾α-FeOOHは153.8から384.6mg/gへのAs(V)の吸着と277.8から1111.1mg/gへのSb(V)吸着を増加させた。As(V)とSb(V)の両方の増強された吸着は,pH範囲2から11まで維持され,Cl-,SO_42-,NO_3-,SiO_32-およびPO_43-のような種々の共存アニオンによって妨害されなかった。吸着親和性は,As(V)とSb(V)でそれぞれ0.0047から0.0915と0.0053から0.4091に増加した。X線光電子分光法研究は,スルフド-修飾α-FeOOHによる吸着プロセスの間,As(V)のAs(III)への還元的変換を示したが,Sb(V)スペシエーションの明らかな変化は無かった。As(V)の除去機構は還元であり,ヒドロキシル基による吸着が続いたが,主に表面錯化はSb(V)の除去に関与した。本研究は,スルファルデ-モジフレーションによるAs(V)/Sb(V)に対するα-FeOOHの吸着容量と吸着親和性を高める簡単な戦略を提示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 吸着 ,  廃水 ,  *ヒ素 ,  *硫化物 ,  錯体生成 ,  吸着剤 ,  *硫化 ,  ヒドロキシ基 ,  アニオン ,  親和性 ,  X線光電子分光法 ,  スペシエーション
準シソーラス用語： 吸着容量 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 吸着親和性と容量 ,  ヒ素とアンチモン ,  鉄系吸着剤 ,  半金属のスペシエーション ,  スルフィド修飾 ,  廃水処理

分類 (2件)： 重金属とその化合物一般  (SB05021R) ,  土壌汚染  (FB04100T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 硫化物 ,  修飾 ,  水溶液 ,  Sb