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J-GLOBAL ID：202002242231459302   整理番号：20A0265130

酸素分圧による酸化モリブデン薄膜の構造,光学,局所仕事関数および電界放出特性の調整【JST・京大機械翻訳】

Tuning the structural, optical, local work function and field emission properties of molybdenum oxide thin films with oxygen partial pressures

著者 (5件)： Maiti Paramita (Institute of Physics, Sachivalaya Marg, Bhubaneswar, Odisha 751005, India) ,  Singh Ranveer (Institute of Physics, Sachivalaya Marg, Bhubaneswar, Odisha 751005, India) ,  Sundaravel B. (Materials Science Division, Indira Gandhi Centre for Advanced Research, Kalpakkam 603102, India) ,  Mitra Arijit (Institute of Physics, Sachivalaya Marg, Bhubaneswar, Odisha 751005, India) ,  Satyam Parlapalli V. (Institute of Physics, Sachivalaya Marg, Bhubaneswar, Odisha 751005, India)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 127  号： 2  ページ： 025301-025301-11  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低ターンオン電界と高磁場増強因子をもつ良好な電界エミッタをもたらすMoO_xナノ構造薄膜の成長後アニーリング過程における酸素分圧(OPP)の最適化を含む簡単な方法を報告した。物理蒸着法によりSi(100)基板上に約250nm厚の酸化モリブデン薄膜を合成した。堆積したままの薄膜を600°Cで30分間,異なるOPPsでアニールし,約2.1×10~-9Pa,≒2.1×10~-1Pa,≒2.1×10~4Paのようにした。試料の形態,結晶構造,化学量論,元素濃度,光学及び局所仕事関数に及ぼすポストアニーリングの影響を走査電子顕微鏡,原子間力顕微鏡,共鳴Rutherford後方散乱分光法及びX線回折法を用いて調べた。蒸着したままの非晶質薄膜は,600°Cで30分間アニーリングした後に,約2.1×10~-9Paおよび≒2.1×10~4PaのOPPで,それぞれ,粒状MoO_2および層状状α-MoO_3ナノ構造に変化した。光学的バンドギャップと局所仕事関数は2.60eVから3.22eVと5.12eVから5.76eVに増加したが,電界放出ターンオン電界はOPPが約2.1×10~9Paから≒2.1×10~4Paへ増加すると6.6V/μmから4.7V/μmに減少した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 共鳴 ,  焼なまし ,  バンドギャップ ,  結晶構造 ,  *電界放出 ,  原子間力顕微鏡 ,  最適化 ,  走査電子顕微鏡 ,  薄膜成長 ,  化学量論 ,  *酸化モリブデン ,  *仕事関数 ,  X線回折分析 ,  物理蒸着 ,  *薄膜 ,  ナノ構造

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸素分圧 ,  酸化モリブデン ,  薄膜 ,  光学 ,  仕事関数 ,  電界放出