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J-GLOBAL ID:202002242526597640   整理番号:20A2066069

UV/塩素プロセスによる反応性ラジカル媒介フルコナゾール分解の速度論と機構:実験的および理論的研究【JST・京大機械翻訳】

Kinetics and mechanism of reactive radical mediated fluconazole degradation by the UV/chlorine process: Experimental and theoretical studies
著者 (18件):
資料名:
巻: 402  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0723A  ISSN: 1385-8947  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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新たな有機汚染物質は,生成したヒドロキシルラジカル(HO)と塩素由来ラジカル(Cl,ClOなど)によってUV/塩素プロセスで効果的に除去できる。しかし,汚染物質による反応性ラジカル反応の分解機構と経路はまだ不明である。ここでは,理論計算および実験的研究を用いて,UV/塩素プロセスにおけるフルコナゾールの反応性ラジカル媒介反応速度論および機構を検討した。結果は,フルコナゾールがUV光分解と塩素化単独よりUV/塩素処理によって効果的に分解できることを示した。ClとHOは,それぞれ,水素原子移動とラジカル付加物形成メカニズムによるフルコナゾールの分解で主要な役割を果たすことが分かった。Cl,HOおよびClOの単一電子移動経路は,それぞれ21.87kcal mol-1,35.12kcal mol-1および46.05kcal mol-1の高い自由エネルギー障壁のため,不可能であった。6つの変換生成物を高分解能質量分析によって同定し,それらはフルコナゾール脱フッ素,ヒドロキシル化,開裂およびトリアゾール環による環化を経て形成した。pHおよび共存成分(DOM,HCO_3-/CO_32-)のような水質パラメータは,反応性ラジカルの生成に影響を与えることによって,UV/塩素プロセスにおけるフルコナゾールの除去に影響を及ぼすことができた。水生生物へのフルコナゾールの毒性は,UV/塩素プロセスによって減少し,微量のクロロホルムだけが検出された。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (3件):
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反応操作(単位反応)  ,  用水の化学的処理  ,  光化学一般 
物質索引 (1件):
物質索引
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