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J-GLOBAL ID：202002243465058178   整理番号：20A1787116

「「強化ガラスの自発的破壊への洞察:ナノからマクロスケールまで【JST・京大機械翻訳】

Insight into the spontaneous breakdown of ‘Toughened glass’: From nano- to macroscale

著者 (9件)： Biswas Ripan K. (XRD and SEM units, CSIR-Central Glass and Ceramic Research Institute, 196 Raja Subodh Mullick Road, Kolkata 700 032, India) ,  Ghosh Jiten (XRD and SEM units, CSIR-Central Glass and Ceramic Research Institute, 196 Raja Subodh Mullick Road, Kolkata 700 032, India) ,  Nannarone Stefano (TASC-INFM, AREA Science Park, S.S. 14 Km 163.5, Basovizza, I-34012 Trieste, Italy) ,  Koshmak Konstantin (TASC-INFM, AREA Science Park, S.S. 14 Km 163.5, Basovizza, I-34012 Trieste, Italy) ,  Nambissan P.M.G. (Applied Nuclear Physics Division, Saha Institute of Nuclear Physics, 1/AF Bidhannagar, Kolkata 700 064, India) ,  Ahmed Maudud (Applied Nuclear Physics Division, Saha Institute of Nuclear Physics, 1/AF Bidhannagar, Kolkata 700 064, India) ,  Mukherjee Shubharaj (Applied Nuclear Physics Division, Saha Institute of Nuclear Physics, 1/AF Bidhannagar, Kolkata 700 064, India) ,  Datta Alokmay (XRD and SEM units, CSIR-Central Glass and Ceramic Research Institute, 196 Raja Subodh Mullick Road, Kolkata 700 032, India) ,  Kuttanellore Muraleedharan (CSIR-Central Glass and Ceramic Research Institute, 196 Raja Subodh Mullick Road, Kolkata 700 032, India)
資料名： Materialia  (Materialia)
巻： 12  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5058A  ISSN： 2589-1529  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 見かけの原因のない「石化ガラス’(TG)の突然の絶縁破壊は,深刻な結果をもたらす。ここでは,自然(STG)を崩壊するTGドアの2種類の試料,および意図的に破壊されたTGシート(ITG)の片についての検討結果を示した。いずれの場合も,破壊された断片は同じ形態を持ち,X線回折(XRD),X線蛍光分光法(XRF),X線吸収端分光法(XANES),Na K端でのX線吸収端分光法(XANES),Fourier変換赤外分光法(FTIR),Twin水銀ポロシメトリー(TMP),原子空気分布関数(PDF)および陽電子消滅分光法(PAS)によって研究された。XRDとPASは,両試料とも同じ構造と高い欠陥濃度を示し,STGの時効による微細構造の大きな差を示さなかった。NiまたはSの痕跡はXRFから観察されず,NiS介在物の存在に疑問を投げかけた。PAS研究は,STG試料中の自由体積空洞の非常に大きな濃度を示し,構造の浸食と剛性の損失をもたらす機械的不安定性が,ガラス内の原子運動と分子結合の関連する弱化の結果であることを意味した。XRFから,STGではNa含有量のわずかな減少が見られたが,これは低角XANESからより顕著となり,表面枯渇を示した。FTIRから,Si-O-Si結合の減少およびO-H結合の増強が,前者からSi(OH)_4への変換を示すことが確認できた。異なる対の原子の結合距離を原子Pair分布関数実験から計算した。特に大きな細孔(直径≧100-200μm,TMPからの直径≧100-200μm)における全多孔性の増加がITG上のSTGで観察された。これらの結果に基づいて,Si-OネットワークがSTGからのNaイオンからの浸出による不安定化から,大きな細孔の蓄積,全体の多孔性の増加,および構造の最終崩壊をもたらすという簡単なモデルを提案した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  *ガラス ,  時効 ,  絶縁破壊 ,  分布関数 ,  ネットワーク ,  ナトリウム ,  ニッケル ,  剛性 ,  核間距離 ,  X線吸収端 ,  XANES ,  介在物 ,  FTIR分光法
準シソーラス用語： ナトリウムイオン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (9件)： 強靭化ガラス ,  突然の破壊 ,  ポリビニルブチラール ,  近端X線微細構造分光法 ,  対分布関数 ,  Fourier変換赤外分光法 ,  ポロシティ測定 ,  陽電子消滅分光法 ,  機械的性質

分類 (2件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  その他の高分子材料  (YH07150C)

タイトルに関連する用語 (5件)： 強化 ,  ガラス ,  破壊 ,  洞察 ,  マクロスケール