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J-GLOBAL ID：202002245573816099   整理番号：20A0552386

レーザ描画設計無秩序における光の横方向局在【JST・京大機械翻訳】

Transverse localization of light in laser written designed disorder

著者 (5件)： Gianfrate A. (CNR NANOTEC, Istituto di Nanotecnologia, via Monteroni, I-73100 Lecce, Italy) ,  Dominici L. (CNR NANOTEC, Istituto di Nanotecnologia, via Monteroni, I-73100 Lecce, Italy) ,  Ballarini D. (CNR NANOTEC, Istituto di Nanotecnologia, via Monteroni, I-73100 Lecce, Italy) ,  Sanvitto D. (CNR NANOTEC, Istituto di Nanotecnologia, via Monteroni, I-73100 Lecce, Italy) ,  Leonetti M. (CNR NANOTEC, Istituto di Nanotecnologia, via Monteroni, I-73100 Lecce, Italy)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 116  号： 7  ページ： 071101-071101-5  発行年： 2020年 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 横Anderson局在化は,伝搬方向に沿って不変である無秩序系における電磁波の横方向閉込めを与える。ここでは,フェムト秒直接レーザ書込み技術により不規則性が作られたガラス微細構造における無秩序誘起閉込めを実証した。高開口数の目的を用いることにより,周囲のガラスよりも高い屈折率をもつ小さいチューブの平行アレイを書き込むことができ,それらを横方向面で不規則に配置することができる。これらの近軸散乱体は横方向局在化を支持し,閉込め強度は不規則性に依存することを実証した。個々の散乱体のユーザ制御位置決めに依存する提案手法は,構造設計を細かく調整し,横方向閉込めを最大化することを可能にする。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ガラス ,  微細構造 ,  散乱体 ,  無秩序系 ,  電磁波 ,  構造設計 ,  フェムト秒 ,  *Anderson局在 ,  位置決め ,  屈折率
準シソーラス用語： 局在化 ,  高開口数 ,  不規則性 ,  レーザ書込 ,  *レーザ直接描画 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  その他の材料  (HC05050Z) ,  非晶質・液体金属の電子伝導  (BM03032V) ,  半導体レーザ  (BD04070L)

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザ描画 ,  設計 ,  無秩序 ,  横方向