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J-GLOBAL ID:202002245871973677   整理番号:20A1086201

ポリジメチルシロキサンのフェムト秒レーザ照射による炭化ケイ素ナノ結晶と多層黒鉛炭素の合成【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of silicon carbide nanocrystals and multilayer graphitic carbon by femtosecond laser irradiation of polydimethylsiloxane
著者 (3件):
資料名:
巻:号:ページ: 1886-1893  発行年: 2020年 
JST資料番号: W5051A  ISSN: 2516-0230  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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高分子材料のレーザに基づく改質は,電気伝導性材料を同時に形成しパターン形成するための汎用的で効率的な技術として出現している。最近,天然ポリジメチルシロキサン(PDMS)がフェムト秒レーザ照射を用いて電気伝導性構造に修飾できることが明らかになった。しかし,この方法で形成された構造に関する詳細はまだ明らかにされていない。本研究では,PDMS表面上にフェムト秒レーザパルスを集束し走査することにより構造を作製した。Raman分光法および透過型Electron顕微鏡(TEM)分析により,PDMSの改質領域において,多層グラファイト炭素だけでなく,炭化ケイ素(SiC)ナノ結晶の形成を明らかにした。形成された材料の状態は焦点スポットからの距離に依存して異なり,光-熱効果がPDMSの導電性材料への分解に寄与することを示唆した。Ramanの結果に加えて,電気伝導率測定は,形成されたグラファイト状炭素中の無秩序の量が作製された構造の電気伝導率に寄与することを示した。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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固体デバイス製造技術一般 

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