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J-GLOBAL ID：202002246309617150   整理番号：20A0916306

マイクロ/ナノ構造の作製における集束ヘリウムイオンビームプロセスのための実験に基づく損傷プロファイル関数【JST・京大機械翻訳】

An Experiment Based Damage Profile Function for Focused Helium Ion Beam Process in Fabrication of Micro/Nano Structures

著者 (6件)： Shao Tianyang (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, School of Mechanical Engineering, Southeast University,Nanjing,CHINA) ,  Chen Qianhuang (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, School of Mechanical Engineering, Southeast University,Nanjing,CHINA) ,  Xing Yan (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, School of Mechanical Engineering, Southeast University,Nanjing,CHINA) ,  Lin Xiaohui (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, School of Mechanical Engineering, Southeast University,Nanjing,CHINA) ,  Fang Chen (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, School of Mechanical Engineering, Southeast University,Nanjing,CHINA) ,  Chai Qing (Jiangsu Key Laboratory for Design and Manufacture of Micro-Nano Biomedical Instruments, School of Mechanical Engineering, Southeast University,Nanjing,CHINA)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： MEMS  ページ： 905-908  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 集束ヘリウムイオンビーム(FHIB)は,その独特の機構によりナノ構造処理のためのより高い分解能の作製を提供することができる。基板の損傷を計算し,FHIBのプロセスパラメータを定量的に決定するために,基板上に入射するFHIBに対する実験に基づく損傷プロファイル関数(DPF)を提案した。本研究では,遺伝的アルゴリズム(GA)を導入して,いくつかの典型的な実験から非晶質領域プロファイルの特性化に基づいてDPFの係数を較正した。非晶質領域プロファイルの実験結果は,広い範囲の入射イオン線量におけるFHIB処理に適用されたDPFによって計算された結果と良く一致した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *集束 ,  分解能 ,  非晶質 ,  キャラクタリゼーション ,  プロセスパラメータ ,  *ナノ構造 ,  遺伝的アルゴリズム
準シソーラス用語： イオン線量 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (7件)： ナノ構造 ,  作製 ,  集束 ,  実験 ,  損傷 ,  プロファイル ,  関数