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J-GLOBAL ID：202002247015635570   整理番号：20A2617938

前真空プラズマElectron源により生成されたビームプラズマからの粒子流の形成【JST・京大機械翻訳】

Formation of Particle Flows from a Beam Plasma Generated by a Forevacuum Plasma Electron Source

著者 (4件)： Klimov Aleksandr (Tomsk State University of Contro Systems and Radioelectronics,40 Lenin Ave., Tomsk,Russia,634050) ,  Bakeev Ilya (Tomsk State University of Contro Systems and Radioelectronics,40 Lenin Ave., Tomsk,Russia,634050) ,  Zenin Aleksey (Tomsk State University of Contro Systems and Radioelectronics,40 Lenin Ave., Tomsk,Russia,634050) ,  Tran Van Tu (Tomsk State University of Contro Systems and Radioelectronics,40 Lenin Ave., Tomsk,Russia,634050)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2020  号： EFRE  ページ： 718-721  発行年： 2020年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ビームプラズマ技術は,種々の材料の表面処理,被覆堆積,プラズマ刺激合成および無機および有機化合物の分解に現在成功裏に使用されている。応用にとって最も興味深いのは,その発生に用いる電子ビームのパラメータの変化により,高い化学活性とパラメータ制御の容易さを有するため,非常に非平衡のビームプラズマである。ビームプラズマ技術の開発における現在の段階は,マイクロエレクトロニクスから医学への様々な応用に対するプラズマ発生器の生成を可能にした。本研究では,ビームプラズマ発生器を10≦550Paの圧力で動作させ,2.1016cm-3の濃度および5eVの温度を有するプラズマの生成を可能にする。発生器の主な特徴は,ガスイオン化とビームプラズマ発生のための前真空プラズマ電子源の使用である。ポリプロピレンの光学的および表面特性に対するそのようなプラズマからのイオン処理の影響を決定した。加工後,紫外領域における吸収が増加し,材料の親水性も増加することを示した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン ,  イオン化 ,  *プラズマ ,  電子ビーム ,  表面処理 ,  プラズマ生成 ,  被覆 ,  表面性状 ,  親水性 ,  非平衡状態 ,  プラズマ装置 ,  有機化合物 ,  電子源 ,  マイクロエレクトロニクス
準シソーラス用語： *粒子流 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 医用画像処理  (JE04020T) ,  音声処理  (JE05000E) ,  NMR一般  (BM07041R) ,  符号理論  (ND02030R) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 真空 ,  プラズマ ,  ビーム ,  粒子流