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J-GLOBAL ID：202002248151355909   整理番号：20A0075628

種々のArgon流速に対するGaN/p-Si薄膜の構造,形態および光学特性評価【JST・京大機械翻訳】

Structural, Morphological, and Optical Characterization of GaN/p-Si Thin Films for Various Argon Flow Rates

著者 (1件)： Mantarci Asim (Physics Department, Science Faculty, Mus Alparslan University, Mus, Turkey)
資料名： JOM  (JOM)
巻： 72  号： 1  ページ： 552-560  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0321A  ISSN： 1047-4838  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒化ガリウム(GaN)薄膜を,種々のアルゴン流に対して高周波(RF)マグネトロンスパッタリングによりp-Si上に成長させた。X線回折(XRD)結果は,GaN薄膜が(100)と(110)面を持つ多結晶構造を持つことを証明した。薄膜の構造パラメータ(結晶粒サイズ,結晶品質,および組織係数)をアルゴン流によって変化させた。これらの変化の理由を詳細に検討した。Raman測定は,六方晶GaNの対応する特性[数式:原文を参照]ピークを示し,全ての材料がXRDに従って圧縮応力を有することを示した。原子間力顕微鏡画像は,ほぼ均一でナノ構造のGaN薄膜表面を持つ周期的な結晶粒配列を示した。薄膜の走査電子顕微鏡は,粒子間のvan der Waals相互作用により,いくつかの凝集を伴うほぼ均一な粒状構造を示した。光学解析は,アルゴン流の変化が材料の光学的バンドギャップエネルギーをわずかに変化させることを示した。Copyright 2019 The Minerals, Metals & Materials Society Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶粒 ,  電子顕微鏡観察 ,  ナノ構造 ,  *流速 ,  結晶粒径 ,  圧縮応力 ,  原子間力顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  HF【周波数】 ,  構造パラメータ ,  X線回折分析 ,  六方晶系 ,  窒化ガリウム ,  多結晶 ,  X線回折 ,  薄膜成長 ,  アルゴン ,  *薄膜

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 流速 ,  GaN ,  Si薄膜 ,  形態 ,  光学特性評価