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J-GLOBAL ID：202002248760496622   整理番号：20A2661711

放射状および方位角偏光ビームにより発生した偏光制御可能な多焦点アレイの比較【JST・京大機械翻訳】

Comparison of polarization-controllable multifocal arrays generated by radially and azimuthally polarized beams

著者 (5件)： Guan Jian (Shenzhen Univ. (China)) ,  Zhang Lin (Chongqing Jiaotong Univ. (China)) ,  Lin Jie (Harbin Institute of Technology (China)) ,  Xiao Zhenzhong (Orbbec Co., Ltd. (China)) ,  Fu Yu (Shenzhen Univ. (China))
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 11551  ページ： 115511Q-7  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 偏光制御多焦点アレイ(MFAs)の達成に及ぼす入射分極の影響を探索するために,半径方向偏光(RP)と方位角偏光(AP)ビームにより発生する偏光制御MFAsを本研究で比較した。0.80,0.85,0.90および0.95の開口数(NA)に対する4つの位相フィルタをそれぞれ設計し,RPおよびAPビームの照明下で偏光制御MFAsを生成した。強度比較により,APビームにより発生した偏光制御MFAsは,同じNAに対して,より高い均一性,より小さな焦点スポットおよびより安定な強度分布を有することを実証した。偏光比較は,APビームにより発生した偏光制御MFAsの偏光特性が,所望のターゲットとより整合することを示した。したがって,AP入射ビームは位相フィルタによる偏光制御MFAを実現するためのより良い選択である。COPYRIGHT SPIE. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 分極 ,  *偏光 ,  照明 ,  方位角 ,  半径方向 ,  偏光性 ,  開口数
準シソーラス用語： 強度分布 ,  *偏光制御 ,  位相フィルタ ,  *偏光ビーム , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 放射状 ,  方位角 ,  偏光ビーム ,  偏光制御 ,  焦点 ,  アレイ