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J-GLOBAL ID：202002248967092855   整理番号：20A1377312

12C6+イオンビーム突然変異による選抜温度耐性スピルリナの多収型藻株とその培養条件の最適化【JST・京大機械翻訳】

Screening temperature-tolerant and high-yield Spirulina maxima mutants using 12C6+ion beam irradiation and optimizing its culture conditions

著者 (5件)： Wang Lijuan (河西学院甘粛省微藻技術創新中心 張掖 734000;甘粛省河西走廊特色資源利用重点実験室 張掖 734000) ,  Zheng Tianxiang (河西学院農業与生態工程学院 張掖 734000) ,  Yang Songqi (河西学院甘粛省微藻技術創新中心 張掖 734000;甘粛省河西走廊特色資源利用重点実験室 張掖 734000) ,  Li Xin (中国科学院近代物理研究所 蘭州 730000) ,  Luo Guanghong (河西学院甘粛省微藻技術創新中心 張掖 734000;甘粛省河西走廊特色資源利用重点実験室 張掖 734000)
資料名： Fushe Yanjiu yu Fushe Gongyi Xuebao  (Fushe Yanjiu yu Fushe Gongyi Xuebao)
巻： 38  号： 2  ページ： 25-32  発行年： 2020年 
JST資料番号： C2543A  ISSN： 1000-3436  CODEN： FYYXEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： スピルリナ(Spirulinamaxima)を実験材料とし、異なる用量の12C6+イオンビームを用いて、照射による誘発を行い、平板分離と温度選別により、初ふるい変異藻株を選別し、バイオマスと遺伝安定性のふるい分け温度により、多収型変異株を耐性した。培養条件を最適化した。結果は,600Gyと800Gyの吸収剤が,それぞれ,71.84%と78.47%の致死率を持ち,2つの温度耐性変異株を選別したことを示した。それぞれ600Gyの照射後、20°Cの培養と800Gyの照射後、35°Cの培養条件下のスピルリナ突然変異株Sm04#とSm21#。10回の継代培養で,バイオマスは0.54g/Lと0.91g/Lに達し,対照群より11.49%と12.64%高く,遺伝的安定性も良好であった。培養条件の最適化実験により、Sm04#とSm21#の最適なpHは9.0で、最適光強度はそれぞれ70μmol/(m2・s)と80μmol/(m2・s)であり、最適な光暗周期は12:12hと14:10hであった。さらに,2つの突然変異株を室内で拡大培養し,蛋白質と多糖類の含有量は対照群より高かった。研究結果は,12C6+イオンビーム照射によるスピルリナス属の菌株の開発と応用のための理論的基礎を提供した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *イオンビーム ,  *最適化 ,  多糖類 ,  遺伝 ,  タンパク質 ,  致死率 ,  *突然変異 ,  *培養条件 ,  イオン照射 ,  バイオマス ,  *スピルリナ ,  吸収剤 ,  継代培養
準シソーラス用語： 光強度 ,  遺伝的安定性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 動物に対する影響  (EK02060K)

タイトルに関連する用語 (9件)： イオンビーム ,  突然変異 ,  耐性 ,  スピルリナ ,  多収 ,  藻 ,  株 ,  培養条件 ,  最適化