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J-GLOBAL ID:202002250759442009   整理番号:20A0661162

3次元配線用Cuペーストの開発

Development of Cu Paste for 3D Wiring
著者 (4件):
資料名:
巻: 34th  ページ: ROMBUNNO.5C1-04  発行年: 2020年 
JST資料番号: X0498B  ISSN: 1880-4616  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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・立体回路基板(MID)を作製する際,環境負荷の低減やプロセスコスト低減のために,銅ペーストによる印刷配線形成を検討。
・2Dおよび3D形状のポリカーボネート基板に,レーザ焼成により銅配線を形成。
・3D形状のポリプロピレン基板に,105°Cの焼成(ギ酸雰囲気中)で,線幅2mm,厚み30μm,体積抵抗率20μΩ・cmの銅配線を形成。
・3D形状の液晶ポリマー基板に,L/S=600μm/600μm,厚み30μm,体積抵抗率5μΩ・cmの銅配線を形成。
・ポーラス構造の銅被膜に樹脂を塗布することで,ポーラス部に樹脂が浸透し,基材と銅配線との密着性が向上。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
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分類 (1件):
分類
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固体デバイス製造技術一般 
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