文献

J-GLOBAL ID：202002251117838322   整理番号：20A1920725

ポリイミドとキセノンイオンを照射した高密度化ナノ細孔核グラファイトの表面トポグラフィーと微細構造変化【JST・京大機械翻訳】

The surface topography and microstructure change of densified nanopore nuclear graphite impregnated with polyimide and irradiated by xenon ions

著者 (9件)： Zhang Heyao (Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Zhang Heyao (School of Physics and State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan 250100, China) ,  Zhang Heyao (Key Laboratory of Interfacial Physics and Technology, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Song Jinliang (Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Song Jinliang (Key Laboratory of Interfacial Physics and Technology, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Tang Zhongfeng (Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Tang Zhongfeng (Key Laboratory of Interfacial Physics and Technology, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) ,  Liu Zhanjun (Key Laboratory of Carbon Materials, Institute of Coal Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Taiyuan 030001, China) ,  Liu Xiangdong (School of Physics and State Key Laboratory of Crystal Materials, Shandong University, Jinan 250100, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 531  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 緻密化した等方グラファイト(D-IG-110)を,ポリイミドを含浸することによって,等方グラファイト(IG-110)から得て,それは,2.060μmから0.065μmまで,IG-110の中央値細孔径を減少させた。D-IG-110試料を7MeV Xe26+で照射した。サンプルの表面形態と微細構造変化を,それぞれ,走査電子顕微鏡,すれすれ入射X線回折,およびRaman分光法によって特性評価した。D-IG-110の初期黒鉛化度はポリイミド由来炭素(ポリイミド-C)の非晶質構造によりわずかに低下した。グラファイト結晶は,照射下でc軸に沿って格子膨張を受ける。IG-110と比較して,D-IG-110試料はC軸に沿ってより低い結晶サイズ変化速度を持ち,D-IG-110のポリイミド-Cは,この膨張の緩衝材になる。ポリイミド-Cは,照射誘起黒鉛化に起因する低表面照射線量(0.02dpa)で照射後に収縮し,線量の更なる増加で拡大した。より低い線量で照射されたD-IG-110試料,IG-110よりもポリイミド-Cを含む領域のa軸に沿っての微結晶サイズの低い収縮率は,照射誘起黒鉛化を示し,ポリイミド-Cも表面残留応力の急速な増加を遅くした。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *イオン ,  残留応力 ,  微結晶 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  *キセノン ,  *ポリイミド ,  黒鉛化 ,  *グラファイト ,  緻密化 ,  照射線量 ,  Raman分光法
準シソーラス用語： 表面形態 ,  *ナノ細孔 ,  *表面トポグラフィー ,  すれすれ入射X線回折 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 核グラファイト ,  照射 ,  微細構造 ,  ポリイミド ,  形態

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (9件)： ポリイミド ,  キセノン ,  イオン ,  高密度化 ,  ナノ細孔 ,  核 ,  グラファイト ,  表面トポグラフィー ,  微細構造