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J-GLOBAL ID:202002251146653897   整理番号:20A0065103

マグネトロンスパッタリングによる太陽選択吸収体としてのアルミニウム基板上の新規窒化チタン/窒化チタン_xO_y/SiO_2複合セラミック膜の調製【JST・京大機械翻訳】

Preparation of a novel TiN/TiNxOy/SiO2 composite ceramic films on aluminum substrate as a solar selective absorber by magnetron sputtering
著者 (8件):
資料名:
巻: 815  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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太陽エネルギー収集のための先端技術は多くの応用においてますます要求されている。本研究では,太陽選択吸収体としてアルミニウム基板上に窒化チタン/窒化チタン_xO_y/SiO_2セラミック複合膜を調製するための反応性マグネトロンスパッタリング技術を報告した。アルミニウム基板,窒化チタン/窒化チタン_xO_yおよびSiO_2層は,それぞれIR反射金属ベース層,二重干渉吸収体層およびセラミック反射防止層として作用した。窒化チタン,窒化チタン_xO_y,およびSiO_2層の構造を,XRD,SEM,およびXPSによって研究した。セラミック複合膜は,赤外スペクトル範囲(2.5~25μm)において,太陽スペクトル範囲(0.3~2.5μm)において95.20%の高い吸収率と5.45%(80°C)の低い放射率を示した。これは,裸のアルミニウム基板と比較すると,太陽吸収率が23.16倍改善されることを示している。空気中,400°C,240hの熱処理により膜を試験したとき,光-熱変換速度は初期段階でわずかな減少を示したが,すぐに安定化し,残りの熱処理ではかなり高い転化率を維持した。高温での広範な試験は,複合セラミック膜が400°Cまでの集光パワー太陽吸収体応用における潜在的候補であることを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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その他の無機化合物の薄膜 

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