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J-GLOBAL ID：202002252051891602   整理番号：20A1898757

環状堆積によるナノ構造多孔質シリコン-銀複合材料層の作製と特性評価:ディップコーティング対スピンコーティング【JST・京大機械翻訳】

Fabrication and characterization of nanostructured porous silicon-silver composite layers by cyclic deposition: dip-coating vs spin-coating

著者 (13件)： Naveas Nelson ( Departamento de Fisica Aplicada, Centro de Micro-Analisis de Madrid and Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, Madrid 28049, Spain) ,  Naveas Nelson ( Departamento de Ingenieria Quimica y Procesos de Minerales, Universidad de Antofagasta, Avenida Angamos 601, Antofagasta, Chile) ,  Manso-Silvan Miguel ( Departamento de Fisica Aplicada, Centro de Micro-Analisis de Madrid and Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, Madrid 28049, Spain) ,  Pulido Ruth ( Departamento de Fisica Aplicada, Centro de Micro-Analisis de Madrid and Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, Madrid 28049, Spain) ,  Pulido Ruth ( Departamento de Ingenieria Quimica y Procesos de Minerales, Universidad de Antofagasta, Avenida Angamos 601, Antofagasta, Chile) ,  Agullo-Rueda Fernando ( Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM), CSIC, Madrid 28049, Spain) ,  Torres-Costa Vicente ( Departamento de Fisica Aplicada, Centro de Micro-Analisis de Madrid and Instituto de Ciencia de Materiales Nicolas Cabrera, Universidad Autonoma de Madrid, Madrid 28049, Spain) ,  Plaza Tanya ( Nucleo de Investigacion en Bioproductos y Materiales Avanzados, UC Temuco, Temuco 47813312, Chile) ,  Pesenti Hector ( Nucleo de Investigacion en Bioproductos y Materiales Avanzados, UC Temuco, Temuco 47813312, Chile) ,  Recio Gonzalo ( Nucleo de Investigacion en Bioproductos y Materiales Avanzados, UC Temuco, Temuco 47813312, Chile) ,  Recio Gonzalo ( Facultad de Ingenieria y Tecnologia, Universidad de San Sebastian, Concepcion 4080871, Chile) ,  Hernandez-Montelongo Jacobo ( Nucleo de Investigacion en Bioproductos y Materiales Avanzados, UC Temuco, Temuco 47813312, Chile) ,  Hernandez-Montelongo Jacobo ( Departamento de Ciencias Matematicas y Fisicas, UC Temuco, Temuco 4813302, Chile)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 31  号： 36  ページ： 365704 (11pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ構造多孔質シリコンと銀(nPSi-Ag)の複合材料は,マイクロエレクトロニクス,フォトニクス,光触媒およびバイオエンジニアリングのような分野での応用の広いスペクトルにより大きな注目を浴び,ナノ構造複合材料,ディップおよびスピンコーティングの製作のための異なる方法の中で,機能性コーティングを提供するための簡単で,汎用性があり,費用対効果の高いボトムアップ技術である。その意味で,nPSi-Ag複合層を作製することを目指した。30nmの細孔径を有するnPSi層を用いて,2種類の薄膜技術を系統的に比較した:繰返しディップコーティング(CDC)と繰返しスピンコーティング(CSC)。CDC法は,金属Agの粒状とフレーク状構造の混合を形成し,CSC法は,AgとAg_2O相を有するフレーク状構造の合成に有利であった。CDCとCSCによって得られたフレークは,それぞれ110nmと70nmの幅を示した。また,粒子は約25nmの特徴を有するナノ構造表面を示した。EDXとRBSの結果によると,nPSiへのAgの統合はCDC技術を用いて達成された。Agナノ構造上に吸着したキトサンに関連したSERSピークは,特にCDCと比較してCSCにより作製されたnPSi-Ag複合材料層で増強され,FTDTシミュレーションにより確認された。これらの結果は,CDCとCSCが生体工学とフォトニクスにおける潜在的用途のための異なるnPSi-Ag複合層を生成することを示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： シミュレーション ,  *銀 ,  *被覆 ,  *浸漬塗装 ,  スペクトル ,  生体工学 ,  キトサン ,  光触媒 ,  マイクロエレクトロニクス ,  *ナノ構造 ,  *スピンコーティング ,  *多孔質シリコン
準シソーラス用語： 費用対効果 ,  フォトニクス ,  ボトムアップ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (10件)： 環状 ,  堆積 ,  ナノ構造 ,  多孔質シリコン ,  銀 ,  材料層 ,  作製 ,  特性評価 ,  ディップコーティング ,  スピンコーティング