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J-GLOBAL ID：202002253196322774   整理番号：20A2237672

接合シリカガラス間のOH基濃度分布変化からの拡散係数決定方法の改良

Improvement of Analysis Method for Determination of Diffusion Coefficient of OH Groups Through the Binding Interface of Silica Glasses

著者 (5件)： 杉山雄哉 (福井大) ,  青木裕亮 (福井大) ,  葛生伸 (福井大) ,  堀越秀春 (東ソー・エスジーエム) ,  堀井直宏 (福井工高専)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 67th  ページ： ROMBUNNO.13a-PB2-1  発行年： 2020年02月28日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【はじめに】表面を研磨したシリカガラスを接触・熱処理すると接合する。我々はOH基濃度の異なる2種類のシリカガラスを接合・熱処理したときのOH濃度分布変化をボルツマン俣野の方法1)で解析し、拡散係数を求めた結果,拡散係数がOH基濃度に比例す...【本文一部表示】

シソーラス用語： *拡散係数 ,  接合 ,  熱処理 ,  信頼性 ,  *濃度分布 ,  *石英ガラス ,  アナログ系 ,  濃度依存性 ,  微分 ,  *ヒドロキシ基 ,  実験式
準シソーラス用語： 近似関数 ,  熱処理時間 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体中の拡散一般  (BL06021L)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリカガラス ,  OH基 ,  濃度分布 ,  拡散係数