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J-GLOBAL ID：202002253348146935   整理番号：20A2241422

光屈折デバイスにおけるホスト材料として利用するための光伝導性高分子の合成【JST・京大機械翻訳】

Synthesis of Photoconductive Polymer for use as the Host Material in Photorefractive Devices

著者 (8件)： WANG Kuo-Lung (RIKEN, JPN) ,  WANG Kuo-Lung (National Tsing Hua Univ., Taiwan, TWN) ,  JIANG Jia-Cheng (National Tsing Hua Univ., Taiwan, TWN) ,  JHU Cang-He (National Tsing Hua Univ., Taiwan, TWN) ,  HORIE Masaki (RIKEN, JPN) ,  HORIE Masaki (National Tsing Hua Univ., Taiwan, TWN) ,  WADA Satoshi (RIKEN, JPN) ,  SASSA Takafumi (RIKEN, JPN)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 67th  ページ： ROMBUNNO.13p-PA2-1  発行年： 2020年02月28日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

本文一部表示： 20世紀の非線形光学の発見以来,センシング技術としてフォトニクスを含む幅広い応用がある。特に,センシングに対する光屈折効果の利用は,光音響や高分解能ホログラフィックトモグラフィーのような侵襲的媒体や破壊的操作の処理なしにアプローチできるため...【JST・京大機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： 屈折率 ,  *光伝導 ,  ガラス転移点 ,  可塑化 ,  *光屈折 ,  回折効率 ,  画像処理 ,  媒質 ,  発色団 ,  側鎖 ,  導電性高分子 ,  増感剤
準シソーラス用語： フォトニクス ,  主鎖 ,  外部電場 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (2件)： 光屈折 ,  高分子