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J-GLOBAL ID：202002253379389160   整理番号：20A2237254

低ダメージスパッタ法で堆積したITO上部電極膜有するトップエミッション型OLED素子の熱処理に関する検討

Top-Emission OLED with ITO Top Electrode Films Deposited by a Low-Damage Sputtering Method

著者 (4件)： 安田洋司 (Tokyo Polytechnic Univ.) ,  小林信一 (Tokyo Polytechnic Univ.) ,  内田孝幸 (Tokyo Polytechnic Univ.) ,  星陽一 (Tokyo Polytechnic Univ.)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 67th  ページ： ROMBUNNO.12p-PA5-6  発行年： 2020年02月28日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 1.まえがき. 我々は有機EL素子の上部電極膜をスパッタ法で堆積する技術の開発に取り組んできた。その結果、上部電極膜のスパッタ堆積時に基板に入射する高エネルギー粒子によるダメージを抑制することで発光特性が改善すること1)、電極膜堆積時の基...【本文一部表示】

シソーラス用語： 計測器 ,  焼なまし ,  電圧 ,  発光 ,  *スパッタ蒸着 ,  基板温度 ,  熱酸化 ,  発光効率 ,  発光特性 ,  ガラス基板 ,  薄膜形成 ,  有機EL ,  *有機EL素子 ,  高エネルギー粒子
準シソーラス用語： デバイス特性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 発光素子  (NC03082G)

タイトルに関連する用語 (8件)： ダメージ ,  スパッタ法 ,  堆積 ,  ITO ,  上部電極 ,  トップ ,  エミッション ,  熱処理