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J-GLOBAL ID：202002253755399259   整理番号：20A0581802

原子論的シミュレーションに基づくMクリーンを超えた偏析モデルの開発【JST・京大機械翻訳】

Development of a segregation model beyond McLean based on atomistic simulations

著者 (2件)： Krauss T. (Institute of Materials Science, University of Stuttgart, Heisenbergstrasse 3, Stuttgart D-70569, Germany) ,  Eich S.M. (Institute of Materials Science, University of Stuttgart, Heisenbergstrasse 3, Stuttgart D-70569, Germany)
資料名： Acta Materialia  (Acta Materialia)
巻： 187  ページ： 73-83  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0316A  ISSN： 1359-6454  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,埋め込まれた原子ポテンシャルを用いて,鉄-クロム合金中の典型的な(100)表面に対する表面への層特異偏析を調べた。半gr正準集団における化学ポテンシャル差の連続変化を通して,600Kと1400Kの間の温度で全組成範囲を調べた。得られた層特異偏析曲線は,界面偏析に対する広く使われているMcLeanモデルの良く知られた限界,すなわち理想的挙動を課す単層モデルを示した。しかし,McLeanの元のアイデアを保ち,偏析の完全な解析的記述を提供するために,偏析モデルを二つの方法で拡張した。第一に,全ての表面は同一の偏析特性を持つ等価単層によって仮定的に置き換えられる。しかし,偏析の一つの単一エネルギーのみを持つ有効単層モデルの適用を可能にする。第二に,非理想解挙動を仮定した一般的処理から直接的に,偏析エネルギーは組成依存性になる。提案した解析モデルの妥当性と精度を,熱力学的に明白な溶質過剰に対する偏析の組成依存エネルギーを適合させることにより確認した。界面吸着方程式による表面形成エネルギーの変化は,全ての調べた温度に対して全組成範囲にわたって優れて記述できた。このモデルは実験データに適用でき,結晶粒界に直接移動した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 表面偏析 ,  結晶粒界 ,  単一層 ,  クロム合金 ,  解析モデル ,  *偏析 ,  化学ポテンシャル ,  界面 ,  吸着 ,  熱力学 ,  溶質
準シソーラス用語： 埋込み原子法 ,  組成依存性 ,  *原子論的シミュレーション , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 表面偏析 ,  Mクリーンモデル ,  表面形成エネルギー ,  埋め込み原子法(EAM)

分類 (1件)： その他の金属組織学  (WB01040Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： 原子論的シミュレーション ,  クリーン ,  偏析 ,  モデル ,  開発