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J-GLOBAL ID:202002253809188615   整理番号:20A0837562

表面上の変態と合成のための基板誘起歪【JST・京大機械翻訳】

Substrate induced strain for on-surface transformation and synthesis
著者 (5件):
資料名:
巻: 12  号: 14  ページ: 7500-7508  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2323A  ISSN: 2040-3364  CODEN: NANOHL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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分子間歪は,湿式化学合成において望ましい生成物に対する化学反応をより迅速かつ促進するために長く使用されてきた。しかしながら,類似のプロトコルは,反応プロセスの複雑さのため,固体基板上での表面上の合成には採用されていない。走査プローブ顕微鏡によるサブ分子分解能の最近の進歩により,表面上の反応経路を捉えることができ,化学反応における歪の役割への実質的な洞察を得ることができる。本レビューの主な焦点は,歪誘起表面反応に関する最近の知見を強調することである。このような基板誘起過程は化学反応性の変化に適用でき,異なる方法で表面上の化学反応を駆動することができ,表面上の合成のための有望な代替アプローチを提供する。本レビューは,表面上の変換と原子的に正確な新しい機能性ナノ材料の合成のための基板誘起歪の利用に光を当てることを目的とした。Copyright 2020 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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固体の機械的性質一般 
タイトルに関連する用語 (3件):
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