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J-GLOBAL ID:202002254135672492   整理番号:20A2698535

高圧での超伝導体におけるフォノン分散の非弾性X線散乱研究【JST・京大機械翻訳】

Inelastic x-ray scattering studies of phonon dispersions in superconductors at high pressures
著者 (4件):
資料名:
巻: 33  号: 12  ページ: 124004 (7pp)  発行年: 2020年 
JST資料番号: T0607A  ISSN: 0953-2048  CODEN: SUSTEF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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Electron-フォノン相互作用は,金属の電気的および熱輸送特性にとって重要であり,電荷密度波または(従来)超伝導不安定性に直接責任がある。電子相転移を横切るフォノン分散異常の直接観測は,それらの形成の基礎となる機構に関する洞察を提供する。ここでは,静水圧および一軸圧力下の超伝導体におけるフォノン分散研究の現状をレビューした。高分解能非弾性X線散乱ビームラインと圧力発生デバイスの計装の進歩は,これらの測定を,世界中のシンクロトロンビームラインで日常的に行うことを可能にする。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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酸化物系超伝導体の物性  ,  金属系超伝導体の物性 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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