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J-GLOBAL ID:202002254452360004   整理番号:20A0967864

金属堆積により誘起されたトポロジカル半金属炭化タングステン上の界面超伝導【JST・京大機械翻訳】

Interfacial Superconductivity on the Topological Semimetal Tungsten Carbide Induced by Metal Deposition
著者 (33件):
資料名:
巻: 32  号: 16  ページ: e1907970  発行年: 2020年 
JST資料番号: W0001A  ISSN: 0935-9648  CODEN: ADVMEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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異なる電子基底状態を持つ材料間の界面は,物質の新しい量子状態を作り,制御するための強力なプラットフォームになり,その中で,界面における反転対称性の破れと他の効果が付加的な電子状態を導入する可能性がある。緊急現象の中で,超伝導は特に興味深い。ここでは,新しく同定されたトポロジー的半金属炭化タングステン(WC)単結晶上に金属膜を堆積することにより,界面超伝導が得られ,ソフト点接触分光法から証明された。この非常にロバストな現象は,非磁性および強磁性薄膜の両方を含む広範囲の金属/WC界面に対して実証され,超伝導転移温度は薄膜の磁性に驚くほど鈍感である。この方法は,長く探索されたトポロジー的超伝導を調べる機会を提供し,トポロジー状態に基づくスピン素子への応用の可能性を持つ。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (5件):
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超伝導材料  ,  酸化物結晶の磁性  ,  固-固界面  ,  相転移・臨界現象一般  ,  磁性一般 

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