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J-GLOBAL ID:202002254561237343   整理番号:20A0195987

塩水のUV_254照射中に生成した塩化メチル【JST・京大機械翻訳】

Methyl chloride produced during UV254 irradiation of saline water
著者 (7件):
資料名:
巻: 384  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: B0362A  ISSN: 0304-3894  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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紫外線(UV)照射は,規制された殺菌副産物の最小生産を伴う広範囲の水性病原体に対するその有効性により,水処理に広く使用されている。しかしながら,本研究では,グアイアコールと塩化物からの塩化メチル(CH_3Cl)の形成をUV_254照射の間に観察した。結果は,グアイアコールの直接光分解がアレニウムイオンを生成し,反応性メトキシ基が塩化物の存在下でさらにCH_3Clに変換されることを示した。o-キノンは,UV_254照射から生じるグアイアコールの分解の主要生成物として検出された。グアイアコールに類似した構造を有するメトキシ,エトキシ,またはメチルアミノ基を含む他の有機化合物も,UV_254照射下で水性塩化物または臭化物溶液中でハロカーボンを生成することを示した。酸素の除去実験と除去は,酸素と塩素ラジカルがCH_3Cl形成に関与しないことを示した。海水試料において,CH_3Clは添加有機物の存在または不在下でも検出された。これらの結果は,CH_3Clが塩水におけるUV_254照射の間に形成され,UV_254プロセスの応用において,この化合物と構造関連化合物に注意を払うべきであることを示す。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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その他の汚染原因物質  ,  下水,廃水の化学的処理 
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