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J-GLOBAL ID:202002255345120948   整理番号:20A2007754

グラフェン下のインターカレーションによるエピタキシャルナノ薄膜Pt_5Gd合金合成の新しい方法【JST・京大機械翻訳】

A new approach for synthesis of epitaxial nano-thin Pt5Gd alloy via intercalation underneath a graphene
著者 (19件):
資料名:
巻: 526  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,よく配向したグラフェンで覆われたPt(111)単結晶表面上にナノ薄いエピタキシャルPt_xGd合金を合成し,異なる合成段階でそれらの電子および原子構造を調べた。低エネルギー電子回折,光電子分光法および走査トンネル顕微鏡データは,グラフェン/Pt(111)系上へのGdの堆積および1080°Cでのその更なるインターカレーションが,準自立グラフェンで覆われたナノ薄いPt_5Gd合金の形成をもたらすことを示唆した。原子的に平坦な合金表面が「カゴメ」構造を有するPt原子層によって終端されることを実証した。合金化学量論の変化によるグラフェンドーピングの制御は,先進エレクトロニクスを開発する新しい機会を開く。Pt_5Gd合金のよく知られた触媒活性のために,著者らの薄膜系は近い将来の触媒の低コスト製造に有望である。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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電気化学反応  ,  光化学一般 
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