磁気光学Kerr効果と軟X線吸収分光法を用いたHf/Fe系における界面の研究【JST・京大機械翻訳】

Vishwakarma Pramod; Vishwakarma Pramod; Gupta Mukul; Reddy Varimalla R.; Phase Deodatta M.; Gupta Ajay

文献

J-GLOBAL ID：202002256170763683 整理番号：20A2522799

磁気光学Kerr効果と軟X線吸収分光法を用いたHf/Fe系における界面の研究【JST・京大機械翻訳】

Study of Interfaces in Hf/Fe System Using Magneto-Optical Kerr Effect and Soft X-Ray Absorption Spectroscopy

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資料名：
巻： 14 号： 11 ページ： e2000177 発行年： 2020年
JST資料番号： W1880A ISSN： 1862-6254 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

FeとHfの層間の界面を磁気光学Kerr効果(MOKE)と軟X線吸収分光法(SXAS)を用いて研究した。Fe層厚さの関数としての測定を,Hfの2つの層間に挟まれたFe層に対してくさび形形状を用いて単一試料で行った。FeのL端でのSXAS測定は,FeとHf層の間の界面合金化の証拠を提供し,Fe-on-HfとHf-on-Fe界面での混合層の厚さは,それぞれ0.18±0.05と0.27±0.05nmであった。Fe層厚さによるMOKEヒステリシスループの発展は,2つのFe/Hf界面での0.8±0.1nmの有効磁気デッド層を与える。2つの独立した技法を用いた混合層と磁気デッド層の厚さの正確な決定は,Fe/Hf界面での磁気死層の界面磁性と起源へのより良い洞察を可能にした。現在の結果は,有効磁気死層の起源が,部分的に混合領域におけるFeとHfの修正磁気モーメントと,部分的には,その磁気モーメントがFe層に対して逆平行した界面Hf層中の近接誘起磁気モーメントに起因することを示唆する。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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金属結晶の磁性 , 酸化物薄膜

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