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J-GLOBAL ID：202002256365570076   整理番号：20A2708368

二次元材料の熱機械的ナノ歪【JST・京大機械翻訳】

Thermomechanical Nanostraining of Two-Dimensional Materials

著者 (8件)： Liu Xia (Microsystems Laboratory, Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL), Switzerland) ,  Sachan Amit Kumar (Department of Chemistry and Applied Biosciences, ETH Zurich, Switzerland) ,  Howell Samuel Tobias (Microsystems Laboratory, Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL), Switzerland) ,  Conde-Rubio Ana (Microsystems Laboratory, Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL), Switzerland) ,  Knoll Armin W. (IBM Research - Zurich, Switzerland) ,  Boero Giovanni (Microsystems Laboratory, Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL), Switzerland) ,  Zenobi Renato (Department of Chemistry and Applied Biosciences, ETH Zurich, Switzerland) ,  Brugger Juergen (Microsystems Laboratory, Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL), Switzerland)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 20  号： 11  ページ： 8250-8257  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二次元(2D)材料における局所バンドギャップ同調は,電子および光電子デバイスにとって極めて重要であるが,ナノスケールでの制御可能で再現性のある歪工学を達成することは,課題として残っている。ここでは,2D遷移金属ジカルコゲン化物とグラフェン中の歪ナノパターンを生成する走査プローブによる熱機械的ナノインデンテーションについて報告し,20nmまでの空間分解能で変調バンドギャップを持つ任意のパターンを可能にした。2D材料は,加熱プローブからの熱および押込力により変形する下の薄い高分子層とvan der Waals相互作用を介して接触している。特に,二硫化モリブデン(MoS_2)の局所バンドギャップは10%まで空間的に変調され,歪の約-70meVの線形速度で180meVまで調節可能であることを実証した。この技法は,ナノメータスケールの分解能を有する2D材料の局所歪工学を研究するための多目的ツールを提供する。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： プローブ ,  同調 ,  再現性 ,  線形性 ,  van der Waals力 ,  *二次元 ,  バンドギャップ ,  ナノインデンテーション ,  グラフェン
準シソーラス用語： 二硫化モリブデン ,  ナノスケール ,  ナノパターン ,  局所歪 ,  熱プローブ ,  光電子デバイス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 2D材料 ,  歪ナノパターン ,  二硫化モリブデン ,  局所バンドギャップ ,  熱走査プローブリソグラフィー ,  チップ増強Raman分光法

分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  絶縁体結晶の電子構造  (BM02070Y)

タイトルに関連する用語 (2件)： 二次元材料 ,  歪