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J-GLOBAL ID:202002257078045641   整理番号:20A1010452

位置およびエナンチオ選択的基質指向エポキシ化【JST・京大機械翻訳】

Regio- and Enantioselective Substrate-Directed Epoxidation
著者 (2件):
資料名:
巻: 2020  号: 16  ページ: 2369-2378  発行年: 2020年 
JST資料番号: W1026A  ISSN: 1434-193X  CODEN: EJOCFK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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基質指向反応は,位置選択的反応を実現するために極性官能基に基づく立体的および電子的に類似した反応部位を区別するための重要な反応として良く認識されている。Sharpless不斉エポキシ化は代表的な基質指向反応であり,アリル性アルコールから有用なキラルエポキシドを得るための例外的な反応として知られている。過去40年にわたるSharpless不斉エポキシ化のかなりの発展にもかかわらず,いくつかの困難で挑戦的な問題は未解決のままである。本レビューでは,エナンチオ選択的基質指向エポキシ化における3つの魅力的で魅力的な話題について述べた。(1)カルボン酸またはアミン誘導体指向エポキシ化,(2)非近位アルケンの位置選択的エポキシ化,(3)ビスホモアリルアルコールのエナンチオ選択的エポキシ化。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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反応の立体化学  ,  三員複素環化合物  ,  触媒反応一般 
タイトルに関連する用語 (2件):
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