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J-GLOBAL ID：202002257767469148   整理番号：20A1141594

応答曲面法に基づく半水硫酸カルシウム複合修飾ヒ素除去研究【JST・京大機械翻訳】

Removal of Arsenic by Complex Modification of Calcium Sulfate Hemihydrate Based on Response Surface Method

著者 (4件)： Yang Rong (湘潭大学環境与資源学院,湘潭 411105;重金属汚染控制湖南省普通高等学校重点実験室,湘潭 411105) ,  Zhu Lifeng (湘潭大学環境与資源学院,湘潭 411105;重金属汚染控制湖南省普通高等学校重点実験室,湘潭 411105) ,  Zhang Yuan (湘潭大学環境与資源学院,湘潭 411105;重金属汚染控制湖南省普通高等学校重点実験室,湘潭 411105) ,  Yang Liuchun (湘潭大学環境与資源学院,湘潭 411105;重金属汚染控制湖南省普通高等学校重点実験室,湘潭 411105)
資料名： Rengong Jingti Xuebao  (Rengong Jingti Xuebao)
巻： 48  号： 12  ページ： 2316-2322  発行年： 2019年 
JST資料番号： W0398A  ISSN： 1000-985X  CODEN： RJXUEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： CuCl2-Na3PO4複合改質半水硫酸カルシウム(HH)のヒ素除去性能を,応答曲面法(RSM)によって研究し,そして,改質HHのヒ素吸着容量に及ぼす改質時間,温度,pH,CuCl2濃度,およびNa3PO4濃度の影響を,単一因子実験によって研究した。As(V)除去率は95.1%に達した。中心複合設計(BBD)実験を通して,改質HHのヒ素吸着効率予測モデルを得た。二因子相互作用によるヒ素吸着効率の応答面分析によると、CuCl2濃度増加、ヒ素除去率増大、CuCl2濃度が低い時、ヒ素除去率はNa3PO4濃度の増加に伴い増大し、逆に減少し、pH値が大きくなると、ヒ素除去率は最初増加し、その後低下した。最適修飾条件は,11.18mmol/LのCuCl2濃度,0.72mmol/LのNa3PO4,pH7.3,60°C,5時間の改質反応であり,HHの除去率は96.7%であった。XRDとSEMによる分析では、吸着産物中にCaHAsO4・2H2Oが含有し、ヒ素が修飾HH表面に化学堆積が起こることが分かった。研究結果はHH機能材料の環境領域における応用発展に一定の参考を提供できる。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  吸着 ,  相互作用 ,  *ヒ素 ,  *硫酸カルシウム ,  pH依存性 ,  機能材料 ,  *応答曲面法 ,  pH【水素イオン指数】 ,  予測モデル
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  除去率 ,  中心複合計画 ,  *ヒ素除去 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 酸化物結晶の磁性  (BM06050E) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (6件)： 応答曲面法 ,  水 ,  硫酸カルシウム ,  修飾 ,  ヒ素除去 ,  研究