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J-GLOBAL ID：202002257823623917   整理番号：20A0425955

X線照射したCu_6PSE_5Iベース薄膜の光吸収と屈折率【JST・京大機械翻訳】

Optical Absorption and Refractive Index of X-ray Irradiated Cu₆PSe₅I-Based Thin Film

著者 (6件)： Studenyak I. P. (Uzhhorod National University, Uzhhorod, Ukraine) ,  Bendak A. V. (Uzhhorod National University, Uzhhorod, Ukraine) ,  Izai V. Yu. (Uzhhorod National University, Uzhhorod, Ukraine) ,  Studenyak V. I. (Uzhhorod National University, Uzhhorod, Ukraine) ,  Solomon A. M. (Institute of Electron Physics, National Academy of Sciences, Uzhhorod, Ukraine) ,  Kus P. (Department of Experimental Physics, Comenius University, Bratislava, Slovakia)
資料名： Springer Proceedings in Physics  (Springer Proceedings in Physics)
巻： 240  ページ： 31-36  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5066A  ISSN： 0930-8989  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cu_6PSe_5Iベース薄膜をマグネトロンスパッタリングにより蒸着した。堆積したままの薄膜を異なる曝露時間でX線により照射した。X線照射したCu_5.5P_1.2Se_5.0I_1.3薄膜の光透過スペクトルを照射時間に依存して測定した。X線照射Cu_5.5P_1.2Se_5.0I_1.3薄膜に対するUrbach吸収端と屈折率の分散を研究した。照射時間に及ぼすUrbach吸収端の光学パラメータと屈折率の依存性を解析した。X線照射時間の増加による屈折率の非線形減少と同様に,エネルギー擬ギャップとUrbachエネルギーの非線形増加を明らかにした。X線照射したCu_5.6P_1.7S_4.9I_0.8薄膜とCu_5.5P_1.2Se_5.0I_1.3薄膜の光学パラメータの比較を行った。Copyright Springer Nature Singapore Pte Ltd. 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *X線照射 ,  擬ギャップ ,  吸収端 ,  薄膜成長 ,  *薄膜 ,  *屈折率 ,  *光吸収
準シソーラス用語： 光学パラメータ ,  照射時間 ,  光透過スペクトル ,  曝露時間 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： X線照射 ,  薄膜 ,  光吸収 ,  屈折率