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J-GLOBAL ID：202002258191250221   整理番号：20A0899543

発光源顕微鏡に基づく受動的相互変調源位置決め【JST・京大機械翻訳】

Passive Intermodulation Source Localization Based on Emission Source Microscopy

著者 (6件)： Yong Shaohui (Electrical Engineering, EMC Laboratory, Missouri University of Science and Technology, Rolla, MO, USA) ,  Yang Sen (Electrical Engineering, Missouri University of Science & Technology, Rolla, MO, USA) ,  Zhang Ling (EMC Laboratory of Missouri S&T, Rolla, MO, USA) ,  Chen Xiong (EMC Laboratory of Missouri S&T, Rolla, MO, USA) ,  Pommerenke David J. (Electrical Engineering, Missouri University of Science & Technology, Rolla, MO, USA) ,  Khilkevich Victor (Electrical Engineering, Missouri University of Science & Technology, Rolla, MO, USA)
資料名： IEEE Transactions on Electromagnetic Compatibility  (IEEE Transactions on Electromagnetic Compatibility)
巻： 62  号： 1  ページ： 266-271  発行年： 2020年 
JST資料番号： H0383A  ISSN： 0018-9375  CODEN： IEMCAE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 放射源顕微鏡(ESM)技術は,遠方場ゾーンにおける電磁場の大きさと位相を測定することにより,電磁干渉源の局在化と特性化のために使用できる。本論文では,ESMを用いて受動相互変調(PIM)の発生源を位置決めする方法を提案した。潜在的ソースと近接場走査の機械的操作を含むPIMソース位置確認技術の伝統的方法と比較して,提案したESMベースのアプローチは,比較的大きな距離でPIMソースを検出することを可能にする試験の下で,装置へのアクセスを必要としない。さらに,周囲の環境によって発生するバックグラウンドPIMの影響は,ESM焦点によって減少することができた。再構成されたPIM源の高品質マップは,ESMを用いて得られる。現実的な設定でより実用的な手動スパースESM走査の実現可能性も実証した。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *光源 ,  電磁場 ,  位置決め ,  *相互変調 ,  電磁干渉 ,  再構成 ,  位相 ,  キャラクタリゼーション ,  遠方場 ,  近接場
準シソーラス用語： 局在化 ,  高品質 ,  発生源 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 雑音一般  (ND04010J)

タイトルに関連する用語 (3件)： 発光源 ,  顕微鏡 ,  相互変調