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J-GLOBAL ID：202002258213563387   整理番号：20A0294550

電子受容体Na_2S_2O_8とH_2O_2の存在下での太陽/TiO_2系によるアニリンの光触媒分解【JST・京大機械翻訳】

Photocatalytic degradation of aniline by solar/TiO₂ system in the presence of the electron acceptors Na₂S₂O₈ and H₂O₂

著者 (4件)： Monteagudo J.M. (Department of Chemical Engineering, Grupo IMAES, Escuela Tecnica Superior de Ingenieros Industriales, Instituto de Investigaciones Energeticas y Aplicaciones Industriales (INEI), University of Castilla-La Mancha, Avda. Camilo Jose Cela 3, 13071 Ciudad Real, Spain) ,  Duran A. (Department of Chemical Engineering, Grupo IMAES, Escuela Tecnica Superior de Ingenieros Industriales, Instituto de Investigaciones Energeticas y Aplicaciones Industriales (INEI), University of Castilla-La Mancha, Avda. Camilo Jose Cela 3, 13071 Ciudad Real, Spain) ,  Martin I. San (Department of Chemical Engineering, Grupo IMAES, Escuela Tecnica Superior de Ingenieros Industriales, Instituto de Investigaciones Energeticas y Aplicaciones Industriales (INEI), University of Castilla-La Mancha, Avda. Camilo Jose Cela 3, 13071 Ciudad Real, Spain) ,  Vellon B. (Department of Chemical Engineering, Grupo IMAES, Escuela Tecnica Superior de Ingenieros Industriales, Instituto de Investigaciones Energeticas y Aplicaciones Industriales (INEI), University of Castilla-La Mancha, Avda. Camilo Jose Cela 3, 13071 Ciudad Real, Spain)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 238  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Na_2S_2O_8および/またはH_2O_2のような電子受容体と組み合わせた太陽/TiO_2システムによるアニリン水溶液分解を研究した。TiO_2初期濃度,過硫酸塩と過酸化水素の用量,およびpHの影響を評価した。太陽/TiO_2/Na_2S_2O_8プロセスは,太陽/TiO_2/H_2O_2プロセスより効率的であることがわかった。最適条件下で,溶液TOCの除去率は,ほぼt_30W=30分(反応時間=60分)で91.5%であった。太陽/TiO_2系への過硫酸塩の添加は,電子/正孔対再結合を阻害し,正孔とSO_4-の利用可能性を増加し,HOラジカルのH2O_2も電子/正孔再結合を阻害し,HOラジカルを生成したが,過剰は分解効率を低下させた。太陽/TiO_2/Na_2S_2O_8および太陽/TiO_2/H_2O_2プロセスの両方におけるSO_4-,HO-,O_2-およびホールのような反応性中間種によって果たされる役割を,適切な消光剤を用いて測定した。SO_4-ラジカルとホールは,太陽/TiO_2/Na_2S_2O_8システムにおける主な原因種であることがわかった。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ペルオキソ硫酸塩 ,  *太陽 ,  反応時間 ,  最適条件 ,  *受容体 ,  消光剤 ,  ペルオキソ硫酸 ,  再結合 ,  正孔 ,  水溶液 ,  過酸化水素 ,  芳香族アミン ,  第一アミン
準シソーラス用語： 電子-正孔再結合 ,  *光触媒分解 ,  *電子受容体 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： アニリン ,  太陽 ,  TiO_2 ,  過硫酸 ,  H2O2 ,  Electron受容体

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  産業廃水処理  (SC03080D)

物質索引 (1件)： アニリン

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子受容体 ,  太陽 ,  アニリン ,  光触媒分解