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J-GLOBAL ID：202002258545828268   整理番号：20A0767304

原子層堆積法により成長させたZnO薄膜の形態と熱的性質の微視的研究【JST・京大機械翻訳】

Microscopic investigations of morphology and thermal properties of ZnO thin films grown by atomic layer deposition method

著者 (3件)： Kazmierczak-Balata Anna (Silesian University of Technology, Konarskiego 22B, 44-100 Gliwice, Poland) ,  Bodzenta Jerzy (Silesian University of Technology, Konarskiego 22B, 44-100 Gliwice, Poland) ,  Guziewicz Marek (Research Network Lukasiewicz - Institute of Electron Technology, Al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warszawa, Poland)
資料名： Ultramicroscopy  (Ultramicroscopy)
巻： 210  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0972A  ISSN： 0304-3991  CODEN： ULTRD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,原子層堆積により作製したZnO薄膜の形態と熱特性の研究を示した。層は200°Cでn-Si(100)ウエハ上に堆積した。X線回折測定は,優先(100)配向を有する薄膜の多結晶構造を示した。より薄いZnO層は微細結晶粒であったが,より厚い膜はより大きな,細長い結晶粒で形成された。表面形態パラメータと熱伝導率を微視的測定から得た。熱特性はZnO薄膜の表面粗さと相関した。熱伝導率の変化は層の形態変化に従った。平均表面粗さは堆積サイクル数に依存し,1.1~2.6nmで変化した。熱伝導率は0.28から4.29Wm-1K-1まで変化し,平均結晶子サイズの増加と共に増加した。電気伝導率と熱伝導率の間の可能な相関も解析した。全熱伝導率へのフォノン寄与は電子熱伝導率を支配する。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  電気伝導率 ,  熱伝導率 ,  *薄膜 ,  フォノン ,  *酸化亜鉛 ,  多結晶 ,  堆積輪廻 ,  結晶粒 ,  表面粗さ ,  *熱特性 ,  結晶粒径
準シソーラス用語： 表面形態 ,  *ZnOフィルム ,  微細結晶粒 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 走査型プローブ顕微鏡 ,  ZnO薄膜 ,  熱伝導率 ,  電気伝導率

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 原子層堆積法 ,  成長 ,  ZnO薄膜 ,  形態 ,  熱的性質 ,  研究