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J-GLOBAL ID：202002258839397310   整理番号：20A2725728

異なるアニーリング時間を持つSiコアファイバの高温アニーリング【JST・京大機械翻訳】

High temperature annealing of Si core fiber with different annealing time

著者 (6件)： Zhao Ziwen (Key Laboratory of Specialty Fiber Optics and Optical Access Networks, Shanghai Institute for Advanced Communication and Data Science, School of Communication and Information Engineering, Shanghai University, Shanghai 200072, PR China) ,  Ren Li (Key Laboratory of Specialty Fiber Optics and Optical Access Networks, Shanghai Institute for Advanced Communication and Data Science, School of Communication and Information Engineering, Shanghai University, Shanghai 200072, PR China) ,  Zhang Jianbo (Key Laboratory of Specialty Fiber Optics and Optical Access Networks, Shanghai Institute for Advanced Communication and Data Science, School of Communication and Information Engineering, Shanghai University, Shanghai 200072, PR China) ,  Wang Shaoye (Key Laboratory of Specialty Fiber Optics and Optical Access Networks, Shanghai Institute for Advanced Communication and Data Science, School of Communication and Information Engineering, Shanghai University, Shanghai 200072, PR China) ,  Xue Fei (Key Laboratory of Specialty Fiber Optics and Optical Access Networks, Shanghai Institute for Advanced Communication and Data Science, School of Communication and Information Engineering, Shanghai University, Shanghai 200072, PR China) ,  Mao Yujizhe (Key Laboratory of Specialty Fiber Optics and Optical Access Networks, Shanghai Institute for Advanced Communication and Data Science, School of Communication and Information Engineering, Shanghai University, Shanghai 200072, PR China)
資料名： Optical Fiber Technology  (Optical Fiber Technology)
巻： 58  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1605A  ISSN： 1068-5200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siコアファイバを1200°Cでアニールし,アニーリングをマッフル炉によりそれぞれ20分,30分,40分,50分および60分行った。Siコアの残留応力分布,結晶状態および伝搬損失に及ぼす異なるアニーリング時間の影響;そして,Siコアの残留応力に及ぼすクラッディングの影響を主に調査した。アニーリングは残留応力を減少させ,残留応力の分布を効果的に均一にした。SiO_2クラッディングはコアに残留応力を導入する。Siコアの残留応力分布はクラッディング除去後により均一になった。50分間アニールしたSiコアは,すべての試料において,より小さな残留応力,比較的均一な残留応力分布および最も低い伝搬損失を有した。伝搬損失は4.7μmから4.9μmの波長範囲の量子カスケードレーザを用いて測定した。1.62dB/cmの最低伝搬損失がすべての試料で達成された。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *高温 ,  残留応力 ,  *焼なまし ,  *ケイ素 ,  量子カスケードレーザ
準シソーラス用語： 伝搬損失 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Siコアファイバ ,  アニーリング時間 ,  残留応力分布 ,  クラッディングの効果

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (4件)： アニーリング ,  Si ,  コア ,  ファイバ