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J-GLOBAL ID：202002258858064465   整理番号：20A1011916

金サブミクロン格子を持つa-Si:C:H膜の発光特性【JST・京大機械翻訳】

Emitting properties of a-Si:C:H films with a gold submicron grating

著者 (10件)： Pavlov S I (Ioffe Institute, Polytecheskaya Str. 26, St. Petersburg, 194021, Russia) ,  Dyakov S A (Skolkovo Inst Sci & Technol, Moscow 143025, Moscow Region, Russia) ,  Samusev A K (St Petersburg Natl Res Univ Informat Technol Mech, Kronverkskiy 49, St Petersburg 197101, Russia) ,  Nashchekin A V (Ioffe Institute, Polytecheskaya Str. 26, St. Petersburg, 194021, Russia) ,  Tanklevskaya E M (Ioffe Institute, Polytecheskaya Str. 26, St. Petersburg, 194021, Russia) ,  Feoktistov N A (Ioffe Institute, Polytecheskaya Str. 26, St. Petersburg, 194021, Russia) ,  Gippius N A (Skolkovo Inst Sci & Technol, Moscow 143025, Moscow Region, Russia) ,  Tikhodeev S G (Skolkovo Inst Sci & Technol, Moscow 143025, Moscow Region, Russia) ,  Pidgayko D (St Petersburg Natl Res Univ Informat Technol Mech, Kronverkskiy 49, St Petersburg 197101, Russia) ,  Pevtsov A B (Ioffe Institute, Polytecheskaya Str. 26, St. Petersburg, 194021, Russia)
資料名： Journal of Physics: Conference Series  (Journal of Physics: Conference Series)
巻： 1461  号： 1  ページ： 012126 (3pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5565A  ISSN： 1742-6588  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,金格子を有するa-Si:H薄膜の反射および光ルミネセンススペクトルを理論的および実験的に調べた。水素化非晶質シリコン-炭素合金膜をPECVD法により作製した。異なる金幅をもつ金ストライプのアレイを,リフトオフ-ビームリソグラフィにより作製した。反射とPLスペクトルをFourierイメージング分光法で測定した。理論計算は実験結果と良く一致した。PLスペクトルから,TE偏光はTM偏光より鋭く,より効率的なPL信号を与え,PL効率は金ストライプ幅にほとんど依存しないことを示した。TEモードにおいてのみ,この偏光にプラズモンの影響がないという事実により,PLが格子から外れることを示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 合金 ,  薄膜 ,  プラズモン ,  偏光 ,  *金 ,  水素化 ,  プラズマCVD ,  TEモード ,  アモルファスシリコン
準シソーラス用語： *発光特性 ,  リフトオフ ,  理論計算 ,  a-Si:H ,  光ルミネセンススペクトル , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (5件)： 金 ,  サブ ,  格子 ,  Si ,  発光特性