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J-GLOBAL ID：202002259520752591   整理番号：20A0201286

Fenton,光-Fenton,電気-Fentonおよび関連プロセスの最近の進歩と革新的技術アプローチのベンチマーキング:モデル分子としてのフェノールの関連性に関するレビュー【JST・京大機械翻訳】

Benchmarking recent advances and innovative technology approaches of Fenton, photo-Fenton, electro-Fenton, and related processes: A review on the relevance of phenol as model molecule

著者 (2件)： Brillas Enric (Laboratori d’Electroquimica dels Materials i del Medi Ambient, Departament de Quimica Fisica, Facultat de Quimica, Universitat de Barcelona, Marti i Franques 1-11, 08028 Barcelona, Spain) ,  Garcia-Segura Sergi (Nanosystems Engineering Research Center for Nanotechnology-Enabled Water Treatment, School of Sustainable Engineering and the Built Environment, Arizona State University, Tempe, AZ 85287-3005, USA)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 237  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 難分解性有機汚染物質による水汚染は,この世紀の大きな工学的挑戦の1つである。人間と環境の健康リスクを避けるために水源からこれらの化合物を完全に除去する技術の開発は,持続可能な開発目標における研究と社会的必要性のホットな話題である。Fentonに基づく技術は,水汚染制御に関する非常に有望な結果を示す高度な酸化プロセスである。この批判的レビューは,Fenton,光-Fenton,電気-Fentonおよび関連技術の現状とモデル化合物としてのフェノールの酸化に基づく最近の進歩に関する理解のベンチマークフレームワークを提供する。これらの技術のニッチ応用と競争力を理解するための基本原理と酸化機構を徹底的に記述した。特に,狭いpH条件のような技術実装障壁を克服するための最近のブレークスルーに重点を置いた。本レビューでは,切削エッジ進展の影響を評価するための参照としてのフェノールの有用性を指摘した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 残留性有機汚染物質 ,  水源 ,  切削 ,  水質汚濁 ,  *酸化 ,  モデル化合物 ,  水処理 ,  持続可能な開発 ,  ベンチマーク ,  ヒドロキシルラジカル ,  汚染防止 ,  フェノール類
準シソーラス用語： 健康リスク ,  *電気-フェントン ,  *光-Fenton , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Fentonベースのプロセス ,  不均一系触媒 ,  ヒドロキシルラジカル ,  フェノールの酸化 ,  水処理

分類 (1件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

物質索引 (1件)： フェノール

タイトルに関連する用語 (9件)： 光-Fenton ,  電気-Fenton ,  プロセス ,  ベンチマーキング ,  モデル ,  分子 ,  フェノール ,  関連性 ,  レビュー