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J-GLOBAL ID：202002259751931282   整理番号：20A1954079

超高速電子回折用の超高輝度270keV DC光電子銃の設計【JST・京大機械翻訳】

Design of ultrabright 270 keV DC photoelectron gun for ultrafast electron diffraction

著者 (4件)： Yang Jing (Laboratory for Shock Wave and Detonation Physics, Institute of Fluid Physics, China Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Yu Yuying (Laboratory for Shock Wave and Detonation Physics, Institute of Fluid Physics, China Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China) ,  Qi Yingpeng (Center for Ultrafast Science and Technology, School of Physics and Astronomy, Shanghai Jiao Tong University, 200240 Shanghai, China) ,  Hu Jianbo (Laboratory for Shock Wave and Detonation Physics, Institute of Fluid Physics, China Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China)
資料名： AIP Advances (Web)  (AIP Advances (Web))
巻： 10  号： 8  ページ： 085205-085205-6  発行年： 2020年 
JST資料番号： U7121A  ISSN： 2158-3226  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超高速電子線回折(UED)技術を用いて,不可逆プロセスにアクセスするために,高電圧のコンパクトなDC光電子銃は,超輝度および超短電子パルスを出力するために非常に望まれる。しかし,高電圧絶縁破壊は,電圧が120kV以上のとき,光電陰極とアノードの間の凝縮空間において強い電場強度を提供するための主要な技術的障壁である。本研究では,電圧分割の概念を採用することにより,UED用の超輝度近相対論的DC光電子銃の新しい設計を提案した。主にミクロ粒子衝突によって引き起こされる電場破壊は,最適化3レベル加速DCガンが270keVまでの電子エネルギーおよび15MV/mまでの電場強度で動作できるような回避を避けることができた。電子パルス伝搬のN-粒子シミュレーションは,このようなDC電子銃で,ジッタ問題のない超輝度および超短電子プローブパルスを持つことが可能であることを示した。Copyright 2020 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 凝縮 ,  最適化 ,  絶縁破壊 ,  電圧 ,  電場 ,  *電子銃 ,  *輝度 ,  微粒子 ,  相対論 ,  ジッタ ,  パルス ,  光電陰極 ,  電界強度 ,  *光電子 ,  アノード

分類 (4件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F) ,  光電子放出  (BM09030D) ,  電子源,イオン源  (BD02020U) ,  加速器一般及び理論  (BE02010M)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高速電子回折 ,  高輝度 ,  DC ,  電子銃 ,  設計