文献
J-GLOBAL ID:202002259838494395   整理番号:20A0881272

垂直磁化Pt/Co/SMo_xおよびPt/Co/AlO_xヘテロ構造における界面Dyzaloshinskii-Moriya相互作用に及ぼす酸化物層の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of the oxide layer on the interfacial Dyzaloshinskii-Moriya interaction in perpendicularly magnetized Pt/Co/SmOx and Pt/Co/AlOx heterostructures
著者 (12件):
資料名:
巻: 513  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
界面Dyzaloshinskii-Moriya相互作用(DMI)は垂直磁化多層におけるキラルNeel型磁壁の安定化に重要な役割を果たす。本研究では,垂直磁気異方性を有する極薄Pt/Co/SmO_xおよびPt/Co/AlO_x積層における界面DMIに及ぼす酸化物層の影響を調べた。DMI有効磁場を,磁場駆動磁壁クリープと電流誘起ヒステリシスループシフト法を用いて特性化した。実験結果は,Co/Co/SmO_xスタックにおいて強化界面DMIが得られることを示し,これはCo/金属酸化物界面の違いの観点からCo層の酸化度に関連している可能性がある。さらに,アルゴンイオンエッチング法によるX線光電子分光法を用いて,Pt/Co/SmO_x中に存在するCo層のより弱い酸化を,Al元素と比較してSmのより小さい電気陰性度による同じアニーリング過程におけるPt/Co/AlO_xにおけるよりも検証した。著者らの結果は,素子の電気陰性度を通してスピン軌道トルクに基づくスピントロニック素子における界面DMIを効果的に操作する有望な経路を提供する。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
金属薄膜 

前のページに戻る