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J-GLOBAL ID：202002260780607487   整理番号：20A2701941

DCスパッタ酸化亜鉛(ZnO)薄膜の構造挙動【JST・京大機械翻訳】

Structural behavior of DC sputtered zinc oxide (ZnO) Thin films

著者 (2件)： Shaker Abbas Sabah (Department of Physics, College of Education, University of Al-Qadisiyah, Diwaniyah, Iraq) ,  Khadayeir Abdalhussain A. (Department of Physics, College of Education, University of Al-Qadisiyah, Diwaniyah, Iraq)
資料名： Journal of Physics: Conference Series  (Journal of Physics: Conference Series)
巻： 1664  号： 1  ページ： 012004 (6pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5565A  ISSN： 1742-6588  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この論文では,znO薄膜をDCスパッタリング技術を用いて堆積し,次に薄膜をXRDによって特性評価し,その結果,最も強いピークは36.4137度,FWHMは0.1779度,格子定数は2.46537A°,そして,平均粒径は49.10nmであった。AFM分析は,圧力スパッタリングの増加が,(6.53から8.32)nm,根平均自乗平均(7.67から9.63)nm,および10点高さが,それぞれ,3×10-3,6×10-3および9×10-3mbarで,(28.6から16.6)に減少したことを示した。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折 ,  格子定数 ,  スパッタリング ,  *薄膜 ,  X線回折分析 ,  *酸化亜鉛 ,  キャラクタリゼーション ,  FWHM
準シソーラス用語： DCスパッタリング ,  平均粒子径 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： DC ,  スパッタ ,  酸化亜鉛 ,  ZnO ,  薄膜 ,  構造挙動