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J-GLOBAL ID:202002260877709158   整理番号:20A0077943

超薄α-Sn(111)膜におけるトポロジカル表面状態の調整【JST・京大機械翻訳】

Tailoring the topological surface state in ultrathin α-Sn(111) films
著者 (15件):
資料名:
巻: 100  号: 24  ページ: 245144  発行年: 2019年 
JST資料番号: D0746A  ISSN: 2469-9950  CODEN: PRBMDO  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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InSb(111)A上に成長させた非常に低い厚さの領域におけるα-Sn膜の電子構造について報告する。高分解能低光子エネルギー角度分解光電子分光法は,第二価電子帯と伝導帯の間に存在する線形分散二次元(2D)トポロジー表面状態(TSS)の直接観測を可能にする。このTSSのDirac点は10nm厚膜においてFermi準位より200meV低いことが分かった。これは薄い膜に対するTSSのDirac点での混成ギャップ開口の観測を可能にする。準二次元電子構造へのクロスオーバは,著者らの密度汎関数理論計算と一致して,Brillouinゾーン中心での完全ギャップ開口を伴った。さらに,TSS中の混成ギャップがトポロジー的に自明でない電子構造と共存するα-Sn膜の厚さ領域を同定し,一次元螺旋状エッジ状態の存在を期待できる。Copyright 2020 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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