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J-GLOBAL ID：202002261175661947   整理番号：20A2188506

強化された太陽光水分解のためのアミノ修飾シロキセンの一段制御可能合成【JST・京大機械翻訳】

One-step controllable synthesis of amino-modification siloxene for enhanced solar water-splitting

著者 (8件)： Zhou Liping (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory for Biomedical Engineering of Ministry of Education, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Wang Yang (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory for Biomedical Engineering of Ministry of Education, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Xu Xinling (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory for Biomedical Engineering of Ministry of Education, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Lei Weisheng (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory for Biomedical Engineering of Ministry of Education, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Huang Jingyun (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory for Biomedical Engineering of Ministry of Education, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Chen Lingxiang (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory for Biomedical Engineering of Ministry of Education, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Zhu Liping (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory for Biomedical Engineering of Ministry of Education, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China) ,  Ye Zhizhen (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Silicon Materials, Key Laboratory for Biomedical Engineering of Ministry of Education, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 579  ページ： 205-211  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい二次元シリコン系材料シロキシセンを,合成と改質のプロセスを単純化するために,トポロジー剥離の特性を利用する1段階法によって手に合成した。初めてアミノ修飾誘導体を調べた。アミノ修飾はシロキシセンの酸化を促進し,バンドギャップを大きくし,シロキシセンのキャリア寿命を延長した。水分解における修飾の前後におけるシロセンの応用を研究した。さらに,得られた2次元材料の優位性を簡潔に詳しく説明し,アミノ修飾サイロセンにおけるより効果的な光生成キャリア分離により,水素生産が大いに促進されることを明らかにした。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 位相幾何学 ,  キャリア寿命 ,  光生成 ,  簡素化 ,  *太陽光 ,  二次元 ,  バンドギャップ
準シソーラス用語： *シロキセン ,  水素製造 ,  *水分解 ,  キャリア分離 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 二次元ナノシート ,  シロキセン ,  アミノ修飾 ,  水分離

分類 (2件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (5件)： 強化 ,  太陽光 ,  水分解 ,  修飾 ,  シロキセン