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J-GLOBAL ID：202002261475639681   整理番号：20A0809540

無秩序基板上の重力下の不安定液膜における遅い粗大化【JST・京大機械翻訳】

Slow coarsening in unstable liquid films under gravity on a disordered substrate

著者 (4件)： Kumar Avanish (School of Physical Sciences, Jawaharlal Nehru University, New Delhi 110067, India) ,  Narayanam Chaitanya (Department of Chemical Engineering, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi 110016, India) ,  Khanna Rajesh (Department of Chemical Engineering, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi 110016, India) ,  Puri Sanjay (School of Physical Sciences, Jawaharlal Nehru University, New Delhi 110067, India)
資料名： Physical Review. E  (Physical Review. E)
巻： 101  号： 4  ページ： 042801  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0493A  ISSN： 2470-0045  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 薄膜方程式の数値解により不安定液膜の発展を調べた。膜は無秩序な被覆基板上に置いた。これは基板と被覆に対するHamaker定数の相対値のランダム空間変化によりモデル化される。自由エネルギーは(a)膜との基板/被覆相互作用に対するvan der Waals項と(b)重力による項から成る。この自由エネルギーは,二つの共存相,すなわち「薄い」と「厚い」相を持つMaxwell二重接線構築を許容する。無秩序がない場合,膜は真の形態的相分離(MPS),すなわち共存相間の磁壁の除去により劣化する。無秩序の導入は,これらの磁壁のトラッピングをもたらし,成長速度論の劇的な減速をもたらす。この遅い粗大化を理解するために,[数式:原文を参照]と[数式:原文を参照]における詳細な数値結果を示した。ここで,Dは液膜系の次元である。Copyright 2020 The American Physical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 自由エネルギー ,  *液膜 ,  磁壁 ,  *重力 ,  数値解法 ,  相互作用 ,  薄膜 ,  被覆 ,  相分離
準シソーラス用語： Hamaker定数 ,  トラッピング , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 分子間相互作用  (BH07020P) ,  薄膜一般  (BK14010X) ,  固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (2件)： 重力 ,  液膜