文献
J-GLOBAL ID:202002261902118728   整理番号:20A1051239

大気圧マイクロプラズマによるSiCナノ結晶成長のためのテトラメチルシランの解離【JST・京大機械翻訳】

Dissociation of tetramethylsilane for the growth of SiC nanocrystals by atmospheric pressure microplasma
著者 (5件):
資料名:
巻: 17  号:ページ: e1900243  発行年: 2020年 
JST資料番号: W1950A  ISSN: 1612-8850  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
大気圧マイクロプラズマによる炭化ケイ素(SiC)ナノ結晶(NC)の合成中のテトラメチルシラン(TMS)の解離後の残留ガスの質量分析について報告する。これらの結果を用いて,NCの形成機構の理解に寄与できる詳細を提供した。質量分析は,中性フラグメントの重要な役割と限られた微粒化を支持する高質量重合生成物の存在を明らかにした。これに基づいて,TMSからのメチル基の損失が水素引き抜きと共に,核形成と成長につながる重要な経路を表すことを見出した。TMS濃度とNC滞留時間の組合せは,NC平均サイズと対応する分布を制御する。より高い前駆体濃度に対して,反応速度は合体を促進するために十分に速い。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
プラズマ応用  ,  その他の無機化合物の薄膜 
物質索引 (1件):
物質索引
文献のテーマを表す化学物質のキーワードです
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る