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J-GLOBAL ID：202002262387988818   整理番号：20A1395125

Ni(111)表面水素位置によるRHEED強度変化

Change of RHEED intensities as a function of surface H position on Ni(111)

著者 (4件)： 川村隆明 (東大生研) ,  川村隆明 (東京工科大) ,  福谷克之 (東大生研) ,  福谷克之 (原子力機構先端基礎研)
資料名： 日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web)
巻： 2019  ページ： 1Ga05(J-STAGE)  発行年： 2019年 
JST資料番号： U1883A  ISSN： 2434-8589  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Ni(111)表面の水素原子位置変化に伴うRHEED強度変化を,多重散乱理論に基づく計算によって調べた。水素原子位置を表面垂直方向および水平方向について変化させると,RHEED強度が系統的に大きな変化を生じる入射条件があることが判明した。同様な変化は水素がサブサーフェスにあるときにも見られた。以上のことからRHEED強度の解析からサブサーフェスを含む表面水素の位置決定が可能であると考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： *ニッケル ,  *RHEED ,  散乱理論 ,  原子 ,  位置決め ,  表面 ,  変位 ,  ロッキングカーブ
準シソーラス用語： 水素原子

分類 (1件)： 金属の表面構造  (BK15020P)

タイトルに関連する用語 (4件)： Ni ,  水素 ,  RHEED ,  強度変化